【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】具有减小的厚度的任选地可转移光学系统相关申请 本申请要求2011年8月19日提交的美国临时专利申请序列号61/525,239的优先权,其以援引的方式并入本文中。
本专利技术主要涉及用于呈现一个或多个合成影像的改进系统,更具体地涉及具有减小的厚度的任选地可转移光学系统。
技术介绍
如在例如授予Steenblik等人的美国专利号7,333,268中详细描述的,微光学材料的聚焦元件的焦距决定了聚焦元件与影像图标阵列的光学分离。换句话说,这些微光学材料的阵列位于光学间隔物(optical spacer)的任一侧,以便使各聚焦元件的焦点与其相关的影像图标对齐。当焦点位于影像图标阵列上或内部时,合成影像处于锐聚焦状态。然而,当焦点位于影像图标阵列的上方或下方时,合成影像是模糊且离焦的。通过本专利技术,消除了对用于提供聚焦元件与它们的相关影像图标之间必需焦距的光学间隔物(即,柔性的透明聚合物薄膜样材料)的需要。结果,减小了总系统厚度,使该系统能够适合于用作表面应用认证系统,并且提高抗干扰性。更具体地,本专利技术提供具有减小的厚度的任选地可转移光学系统,其基本上包含由结构化影像图标的一种或多种排列所组成的合成影像呈现系统,所述结构化影像图标的一种或多种排列基本上与聚焦元件的一种或多种排列接触但不完全地嵌入其内部,其中影像图标的一种或多种排列与聚焦元件的一种或多种排列相互配合以形成影像图标的至少部分的至少一个合成影像,其中聚焦元件的一种或多种排列中的聚焦元件之间的间隙空间并不有助于至少一个合成影像的形成。本文中使用的短语“基本上接触”意图表示聚焦元件的顶部或底部( ...
【技术保护点】
具有减小的厚度的任选地可转移光学系统,其包含由基本上与聚焦元件的一种或多种排列接触但不完全嵌入其中的结构化影像图标的一种或多种排列构成的合成影像呈现系统,其中所述影像图标的一种或多种排列与所述聚焦元件的一种或多种排列相互配合以形成至少一部分的所述影像图标的至少一个合成影像,其中在所述聚焦元件的一种或多种排列中的聚焦元件之间的间隙空间并不有助于所述至少一个合成影像的形成。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.08.19 US 61/5252391.具有减小的厚度的任选地可转移光学系统,其包含由基本上与聚焦元件的一种或多种排列接触但不完全嵌入其中的结构化影像图标的一种或多种排列构成的合成影像呈现系统,其中所述影像图标的一种或多种排列与所述聚焦元件的一种或多种排列相互配合以形成至少一部分的所述影像图标的至少一个合成影像,其中在所述聚焦元件的一种或多种排列中的聚焦元件之间的间隙空间并不有助于所述至少一个合成影像的形成。2.如权利要求1所述的任选地可转移光学系统,其中所述结构化影像图标是由以下形成:在基本平的结构中的空隙,其中所述空隙任选地用另一种材料填充或涂覆;在基本平的结构中的凸起区域;或其组合。3.如权利要求1所述的任选地可转移光学系统,其中所述系统的厚度小于50微米,并且其中在聚焦元件的一种或多种排列中的所述聚焦元件之间的所述间隙空间为约5微米或以下。4.如权利要求1所述的任选地可转移光学系统,其中所述系统的所述厚度小于或等于约I厘米,并且其中在所述聚焦元件的一种或多种排列中的所述聚焦元件之间的间隙空间为约5毫米或以下。5.如权利要求1所述的任选地可转移光学系统,其是任选地可转移折射式光学系统。6.如权利要求5所述的任选地可转移光学系统,其中在所述聚焦兀件的一种或多种排列中的所述 聚焦元件具有小于或等于I的f数和圆柱形、球形或非球形的表面。7.如权利要求5所述的任选地可转移光学系统,其中所述折射式系统是形成于载体基材上的微观尺度系统,其中所述聚焦元件具有小于约50微米的基部直径和焦距、和小于或等于I的f数,其中所述结构化影像图标是由以下形成:总深度测量为约50纳米至约8微米的任选地经填充或经涂覆的空隙;总高度测量为约50纳米至约8微米的凸起区域;或者两者,其中所述微观尺度系统具有小于约50微米的厚度,并且其中所述载体基材具有在约10至约50微米的厚度。8.如权利要求5所述的任选地可转移光学系统,其中所述系统是可转移折射式光学系统,其以指定的顺序包含以下层: 具有微结构的脱模衬里,其是由载体基材和透镜模具层组成,其中所述透镜模具层具有多个具有负透镜几何形状的空隙; 所述折射式光学系统,其中所述聚焦元件的一种或多种排列的所述聚焦元件具有正透镜几何形状,并且与所述具有微结构的脱模衬里的所述透镜模具层紧密接触; 任选地,选自加强层、密封层、着色或染色层、遮光层的一个或多个层,或者其组合;和 一个或多个的可活化粘合剂层, 其中,所述折射式光学系统具有比所述具有微结构的脱模衬里更高的硬挺度或抗弯曲性。9.如权利要求8所述的可转移折射式光学系统,其中所述加强层是由能量可固化丙烯酸酯类制备并且具有在约I和约10微米之间的厚度。10.制造可转移折射式光学系统的方法,所述方法包括: 形成具有微结构的脱模衬里,所述脱模衬里包含粘附到载体膜的透镜模具层,其中所述透镜模具层是由具有多个具有负透镜几何形状的空隙的可固化树脂形成,所述负透镜几何形状是通过使所述树脂固化在具有正透镜几何形状的刚性表面上制成;和通过如下方法,使所述可转移折射式光学系统形成于所述具有微结构的脱模衬里的透镜模具层上: 将所述具有微结构的脱模衬里的所述透镜模具层置于刚性图标模具上,同时将光学功能性的辐射可固化液体聚合物填充在所述透镜模具层和所述刚性图标模具两者中的空隙中,用轧辊施加压力以驱除过量的液体聚合物,并同时将所述液体聚合物暴露于辐射使得所述可固化聚合物固化或硬化并且可以从所述图标模具中提起,其中所述固化或硬化的聚合物具有由在其外表面中的空隙形成的结构化影像图标; 用提供与光学功能性聚合物对比度的材料填充所述影像图标空隙,以形成经填充的影像图标层; 任选地,将密封层、加强层、着色或染色层、遮光层或者其组合中的一个或多个施加到所述经填充的影像图标层上;和 将一个或多个粘合剂层施加到所述任选地密封的、加强的、着色/染色的、和/或不透明的、经填充的影像图标层上。11.如权利要求1所述的任选地可转移光学系统,其是任选地可转移反射式光学系统。12.如权利要求11所述的任选地可转移光学系统,其中所述聚焦元件的一种或多种排列具有选自完全不透明的反射金属层、半透明或部分金属化的金属层、高折射率层以及多层蒸气沉积材料的一个或多个层。13.如权利要求12所述的任选地可转移光学系统,其中所述聚焦元件的一种或多种排列具有多层蒸气沉积材料,所述多层蒸气沉积材料包括由金属层与介电层的组合所形成的色移干涉涂层。14.如权利要求11所述的任选地可转移光学系统,其中所述反射系统是形成于载体基材上的凹形反射系统。15.如权利要求14所述的任选地可转移光学系统,其中所述凹形反射系统是凹形反射微观尺度系统,其中所述凹形反射式聚焦元件具有小于约50微米的基部直径和焦距、以及小于或等于I的f数,其中所述结构化影像图标是由以下形成:总深度测量为约50纳米至约8微米的任选地经填充或经涂覆的空隙;总高度测量为约50纳米至约8微米的凸起区域;或者两者,其中所述微观尺度系统具有小于约50微米的厚度,并且其中所述载体基材具有约10至约50微米的厚度...
【专利技术属性】
技术研发人员:GR乔丹,SM凯普,SK帕尔姆,JD戈斯内尔,CB肯尼迪,
申请(专利权)人:光学物理有限责任公司,
类型:发明
国别省市:美国;US
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