一种高强度的磁芯制造技术

技术编号:10366181 阅读:175 留言:0更新日期:2014-08-28 02:02
本实用新型专利技术公开了一种高强度的磁芯,磁芯呈E字型结构,包括本体和从本体的同一方向伸出的并列设置的第一伸出臂、第二伸出臂和第三伸出臂,第一伸出臂、第二伸出臂、第三伸出臂与本体的连接处采用弧形过渡结构;弧形过渡结构的表面采用喷丸工艺处理形成晶粒尺寸从浅至深呈梯度分布的结构:0~0.04mm深度范围内,晶粒尺寸为20~40nm;0.04~0.1mm深度范围内,晶粒尺寸为30~80nm;0.1~0.2mm深度范围内,晶粒尺寸为60~150nm。三层不同大小的晶粒配合使得磁芯的各连接部硬度高,弹性应变大,能够适应温度骤降或者骤升,保证磁芯的各连接部的结构完整性,保证供电质量。(*该技术在2023年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
一种高强度的磁芯
本技术涉及电磁转化辅助设备
,尤其涉及一种高强度的磁芯。
技术介绍
磁芯广泛应用于变压器、扼流圈、逆变器、转换器和其它各种需要电磁转化的场合,其性能优劣直接决定了电磁转化的效率,其可靠性直接影响供电的质量。磁芯是指由各种氧化铁混合物组成的一种烧结磁性金属氧化物。由于材料硬度比较高,弹性应变小,所以也比较脆,在电磁转化的工作过程中遇到温度骤降或者骤升时,磁芯的各连接部容易断裂,导致供电质量差,甚至出现无法供电的情形。
技术实现思路
本技术的目的在于提出一种高强度的磁芯,磁芯的各连接部硬度比较高,且同时弹性应变比较大,能够适应电磁转化的工作过程中遇到的温度骤降或者骤升,保证磁芯的各连接部的结构完整性,保证供电质量。为达此目的,本技术采用以下技术方案:—种高强度的磁芯,包括本体和并列设置的第一伸出臂、第二伸出臂和第三伸出臂,第一伸出臂、第二伸出臂和第三伸出臂大致沿同一方向从本体伸出,第一伸出臂、第二伸出臂第三伸出臂和本体组成E字形结构,第一伸出臂、第二伸出臂、第三伸出臂与本体的连接处采用弧形过渡结构;弧形过渡结构的表面采用喷丸工艺处理形成晶粒尺寸从浅至深呈梯度分本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种高强度的磁芯,包括本体(4)和并列设置的第一伸出臂(1)、第二伸出臂(2)和第三伸出臂(3),第一伸出臂(1)、第二伸出臂(2)和第三伸出臂(3)大致沿同一方向从本体(4)伸出,第一伸出臂(1)、第二伸出臂(2)第三伸出臂(3)和本体(4)组成E字形结构,其特征在于,所述第一伸出臂(1)、第二伸出臂(2)、第三伸出臂(3)与本体(4)的连接处采用弧形过渡结构;所述弧形过渡结构的表面采用喷丸工艺处理形成晶粒尺寸从浅至深呈梯度分布的结构:0~0.04mm深度范围内,晶粒尺寸为20~40nm;0.04~0.1mm深度范围内,晶粒尺寸为30~80nm;0.1~0.2mm深度范围内,晶粒尺寸为60~...

【技术特征摘要】
1.一种高强度的磁芯,包括本体⑷和并列设置的第一伸出臂(I)、第二伸出臂⑵和第三伸出臂(3),第一伸出臂(I)、第二伸出臂(2)和第三伸出臂(3)大致沿同一方向从本体(4)伸出,第一伸出臂(I)、第二伸出臂(2)第三伸出臂(3)和本体(4)组成E字形结构,其特征在于,所述第一伸出臂(I)、第二伸出臂(2)、第三伸出臂(3)与本体(4)的连接处采用弧形过渡结构;所述弧形过渡结构的表面采用喷丸工艺处理形成晶粒尺寸从浅至深呈梯度分布的结构:0?0.04mm深度范围内,晶粒尺寸为20?40nm ;0.04?0.1mm深度范围内,晶粒尺寸为30?80nm ;0.1?0.2mm深度范围内,晶粒尺寸为60?150nm。2.如权利要求1所述的高强度的磁芯,其特征在于,所述第二伸出臂(2)位于第一伸出臂(I)和第三伸出臂(3)之间;所述第二伸出臂(2)的高度为第一伸出臂(I)的高度的1.8?2.2倍;所述第一伸出臂(I)、第二伸出臂(2)和第三伸出臂(3)的伸出长度和厚度相等。3.如权利要求2所述的高强度的磁芯,其特征在于,所述第一伸出臂(I)、第二伸出臂(2)、第三伸出臂(3)和本体(4)的密度之比为1:0.95?0.98:1:1.02?1.08。...

【专利技术属性】
技术研发人员:王嘉隆
申请(专利权)人:昆山优磁电子有限公司
类型:新型
国别省市:江苏;32

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