【技术实现步骤摘要】
一种半导体立式炉的保温桶
本专利技术涉及一种半导体立式炉的保温装置,更具体地,涉及一种用于硅片加工的半导体立式炉的保温桶。
技术介绍
立式炉是用于半导体硅片加工的一种工艺设备。硅片加工是一种非常精密的工艺,温度是硅片加工工艺中非常重要的指标,直接影响硅片膜厚的厚度和均匀性。为保证立式炉热反应管内温度的稳定,并提高保温效果,在立式炉内设置了保温桶。在工艺中,保温桶位于炉体热反应管的下部,用于支撑石英舟,并且提供保温的功效。而在工艺结束后,保温桶随石英舟下降到微环境,其自身的热容量会影响到微环境的温度变化,因此,这时又需要保温桶具有较小的储热能力。中国专利技术专利申请CN101552198A300mm立式氧化炉保温桶,公开了一种保温桶的结构设计形式,在通过支撑杆连接的上、下石英板之间,横向均匀设置有多片固定安装在支撑杆上的石英片,石英片包覆有OP材料,起到提高保温效果的作用。该专利技术保温桶的储热能力较高,在工艺中起到了较好的保温效果;但在工艺结束后,保温桶下降到微环境时,其高的热容量反而会影响到微环境的温度变化,对工艺过程产生不利影响。因此,该专利技术结构设 ...
【技术保护点】
一种半导体立式炉的保温桶,包括底部石英板、竖直安装在石英板上的若干支撑杆、水平安装在支撑杆上的若干石英片,其特征在于,所述保温桶还包括一石英中空壳体,所述中空壳体与所述石英板同心设置,所述支撑杆一端连接所述石英板,另一端连接所述中空壳体。
【技术特征摘要】
1.一种半导体立式炉的保温桶,包括底部石英板、竖直安装在石英板上的若干支撑杆、水平安装在支撑杆上的若干石英片,其特征在于,所述保温桶还包括一石英中空壳体,所述中空壳体与所述石英板同心设置,所述支撑杆一端连接所述石英板,另一端连接所述中空壳体。2.如权利要求1所述的保温桶,其特征在于,所述中空壳体为圆柱形石英真空密闭壳体。3.如权利要求1所述的保温桶,其特征在于,所述中空壳体的侧面设有若干通孔。4.如权利要求1所述的保温桶,其特征在于,所述中空壳体为圆柱形,侧面设有若干通孔,所述通孔按轴对称分布。5.如权利要求1、3或4所述的保温桶,其特征在于,所述中空壳体为圆柱形,侧面设...
【专利技术属性】
技术研发人员:张骏,柳文涛,
申请(专利权)人:北京七星华创电子股份有限公司,
类型:新型
国别省市:北京;11
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