高分子真空沉积的设备制造技术

本实用新型专利技术是关于一种高分子真空沉积的设备，其在聚对二甲基苯的沉积设备中，于沉积腔体内设置开口面向腔壁的导流管，使得对二甲基苯的反应粒子所形成的流场在沉积腔体内的流动能够达到均速且均匀，进而使得镀膜的效果得到提升；同时，本实用新型专利技术也变更了冷凝系统的设计，降低冷凝系统因结露结冰膨胀而造成损坏的可能性。（*该技术在2024年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
一种高分子真空沉积的设备，其特征在于，其具有真空的一沉积腔体，该沉积腔体包含：一容室，设置有一基材；以及一第一导流管，设置于该容室之内，其具有多个导流出口，该些导流出口面对该沉积腔体的一腔壁。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：林明达，
申请(专利权)人：德一精密国际股份有限公司，
类型：新型
国别省市：中国台湾;71