降低损耗的谐振器制造技术

一种用于检测电磁辐射的设备包括：衬底上的波导和至少一个谐振器；以及在每个谐振器和衬底之间的低折射率区域。所述低折射率区域的折射率比谐振器的材料的折射率小。所述低折射率区域可以是环形的，其宽度可以与回音壁谐振模式下电磁辐射集中的区域的宽度相对应。所述低折射率区域可以是衬底和谐振器之间的空气间隙。所述设备可以是用于对电磁辐射的多个预定波长进行检测的光谱仪。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】降低损耗的谐振器
本专利技术涉及降低谐振器中的损耗。更具体地，本专利技术涉及一种设备，所述设备包括衬底上的谐振器以及在衬底和谐振器之间的低折射率区域。
技术介绍
光谱仪用于多种应用，以便测量波长范围内光的特性。例如，通过获得感兴趣对象的吸收或发射谱，可以将光谱仪用于成份分析。光谱内峰值的存在和位置可以指示特定元素或化合物的存在。通常将光谱仪用于光波长下的分析，也可以将光谱仪用在例如微波和无线电波长等其它波长下。通常光谱仪是相对复杂和昂贵的设备，需要以高精度控制多个移动部件的对准。例如，典型光谱仪可以将光聚焦到衍射光栅以便将入射波束分为分离波长，可以将衍射光栅旋转到特定角度以便将特定波长的光定向至检测器。近年来，已经开发了基于芯片的光谱仪，所述基于芯片的光谱仪高度小型化，没有移动部件，并且可以使用发展成熟的光刻技术来进行制作。典型的芯片光谱也也可以称作片上光谱仪，芯片光谱仪包括:衬底，将波导以及与所述波导相耦合的多个盘式谐振器图案化到衬底上。波导将输入光引导至盘式谐振器。将光输入到波导的一端，将每个谐振器排列为支持特定波长处的谐振模式，使得仅该波长的光耦合进入谐振器。每个盘式谐本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种设备，包括：衬底(110；510)；衬底上的至少一个谐振器(130；530)，每个谐振器在电磁辐射的预定波长处进行谐振；衬底上的波导(120；520)，与所述至少一个谐振器相耦合，以便将电磁辐射引导至所述至少一个谐振器；以及低折射率区域(260；560)，在每个谐振器和衬底之间，所述低折射率区域的折射率比谐振器的材料的折射率小。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2011.10.14 EP 11275126.81.一种设备，包括: 衬底(110 ；510)； 衬底上的至少一个谐振器(130 ;530)，每个谐振器在电磁辐射的预定波长处进行谐振； 衬底上的波导(120 ;520)，与所述至少一个谐振器相耦合，以便将电磁辐射引导至所述至少一个谐振器；以及 低折射率区域(260 ;560)，在每个谐振器和衬底之间，所述低折射率区域的折射率比谐振器的材料的折射率小。2.根据权利要求1所述的设备，其中每个谐振器配置为支持回音壁谐振模式，在回音壁谐振模式下预定波长的电磁辐射集中在与谐振器周界相邻的区域内，以及 其中针对每个谐振器的低折射率区域的宽度与电磁辐射集中的区域的宽度相对应。3.根据权利要求1或2所述的设备，其中所述低折射率区域是谐振器和衬底之间的空气间隙(260)。4.根据权利要求3所述的设备，还包括: 衬底上的支撑层(232),支撑谐振器并与空气间隙横向相邻。5.根据权利要求4所述的设备，其中所述衬底和支撑层二者都由磷化铟InP形成。6.根据权利要求3、4或5所述的设备，还包括: 衬底上的刻蚀停止层(212)，在衬底和低折射率区域之间。7.根据权利要求1或2所述的设备，其中所述低折射率...

【专利技术属性】
技术研发人员：斯蒂芬·斯韦内，张亚平，
申请(专利权)人：阿斯特里姆有限公司，
类型：发明
国别省市：英国;GB