【技术实现步骤摘要】
一种高CTI值覆铜板制作方式
本专利技术涉及印刷电路板所用覆铜箔板
,尤其涉及一种高CTI值覆铜板制作方式。
技术介绍
覆铜板用绝缘基材的表面受到尘埃附着、水份结露或潮气和具有正负离子污染物的污染时,在外加电压作用下其表面的泄漏电流比干净的表面要大得多。该泄漏电流产生的热量蒸发潮湿污染物,使绝缘基材的表面处于不均匀的干燥状态,导致基材表面形成局部干燥点或干燥带。干区使表面电阻增大,这样电场就变得不均匀,进而产生闪络放电。在电场和热的共同作用下,绝缘材料表面碳化,碳化物电阻小,促使施加电压的电极尖端形成的电场强度增大,因而更容易发生闪络放电。线路间反复发生闪络放电产生电火花,进而形成炭化导电电路的痕迹,破坏基材表面绝缘性能,形成导电通道,发生漏电起痕现象。漏电起痕现象是:固体绝缘材料表面在电场和电解液的联合作用下,逐渐形成导电通路的过程。绝缘材料表面的抗漏电起痕的能力指数被称为相比漏电起痕指数CTI(Comparative Tracking Index)。CTI在一定程度上可衡量绝缘材料的绝缘安全性能。作为印制电路板绝缘基体的覆铜板必须提高其CTI ...
【技术保护点】
一种高CTI值覆铜板制作方式,其特征是:制作步骤如下:a、制作里料胶液半固化片,将树脂、固化剂、促进剂、偶联剂以及用硅烷类表面处理剂处理过的二氧化硅、滑石粉和适量溶剂搅拌均匀成液态,将制得的混合物涂覆在7628电子级玻璃布上在150‑170℃烘箱里烘烤5‑8Min制成半固化片;b、制作表料胶液半固化片,将树脂A、增韧剂B、固化剂、促进剂、偶联剂和用硅烷类表面处理剂处理过的二氧化硅、氢氧化铝和适量溶剂搅拌均匀成液态,将制得的混合物涂覆在7628电子级玻璃布上在150‑170℃烘箱里烘烤7‑10Min制成半固化;c、叠配,将两层铜板内叠配两层铜箔,在两层铜箔内叠配两层表料胶液半 ...
【技术特征摘要】
1.一种高CTI值覆铜板制作方式,其特征是:制作步骤如下: a、制作里料胶液半固化片,将树脂、固化剂、促进剂、偶联剂以及用硅烷类表面处理剂处理过的二氧化硅、滑石粉和适量溶剂搅拌均匀成液态,将制得的混合物涂覆在7628电子级玻璃布上在150-170°C烘箱里烘烤5-8Min制成半固化片; b、制作表料胶液半固化片,将树脂A、增韧剂B、固化剂、促进剂、偶联剂和用硅烷类表面处理剂处理过的二氧化硅、氢氧化铝和适量溶剂搅拌均匀成液态,将制得的混合物涂覆在7628电子级玻璃布上在150-170°C烘箱里烘烤7_10Min制成半固化; C、叠配,将两层铜板内叠配两层铜箔,在两层铜箔内叠配两层表料胶液半固化片,最后在两层表料胶液半固化片内叠配若干层里料胶液半固化片。2.d、压制,将叠配完成的组料放入热压机中热压120min-135min,再放入冷压机中冷压55min-65min。3.根据权利要求1所述的一种高CTI值覆铜板制作方式,其特征是所述的表料胶液半固化片的配比是:主体树脂为环氧树脂AlOOO份,增韧剂B 10-30份,氢氧化铝534份;二氧化硅50-100份;固化剂为电子级双氰胺23.1份,促进剂为叔胺类促进剂0.5份,偶联剂为KH560型硅烷类偶联剂2.5份,溶剂100-250份,以上原料按质量计算。4.根据权利要求2所述的一种高CTI...
【专利技术属性】
技术研发人员:凌云,钱笑雄,
申请(专利权)人:铜陵浩荣华科复合基板有限公司,
类型:发明
国别省市:安徽;34
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