一种用于多重显影的复合光子薄膜及制备方法技术

本发明专利技术是一种用于多重显影的光子阵列薄膜的制备方法，其特点是，包含的内容有：将聚甲基丙烯酸甲酯、聚丁二烯和两性共聚物按质量份1:1～3：0.5比例溶解于氯仿，配置成浓度为1～5g/L的氯仿溶液，取所述的氯仿溶液5ml，放置在直径为9cm的培养皿中，向氯仿溶液表面吹拂含有水汽和乙醇的空气至溶剂挥发，得到高分子聚合物的有序阵列膜。将有序阵列膜在紫外辐照条件下老化30min，再用胶带粘贴撕掉表层结构得到针垫阵列膜，用离子溅射仪对针垫阵列膜表面喷溅一层Pt或Pd金属，然后用2mLPMMA的氯仿溶液1g/L滴加至喷溅Pt或Pd金属的针垫阵列膜表面并待其挥发，得到多重显影的光子阵列膜。

【技术实现步骤摘要】
—种用于多重显影的复合光子薄膜及制备方法
本专利技术属于高分子透镜阵列膜材料及制备方法，尤其涉及使用模板进行表面具有凸透镜以及凹透镜材料的掺混制备。
技术介绍
目前，制备光子学薄膜的方法主要有传统的石板印刷术法和自组装方法等。1.照相平版法:照相平版法向下涂料技术的能量消耗大，并且需要复杂的仪器。2.光刻蚀工艺:光刻蚀工艺由薄膜沉积、光刻和蚀刻三个工艺组成。光刻前先要在基片表面覆盖一层薄膜，薄膜的厚度为几埃到几十微米，这一工艺过程叫薄膜沉积。在薄膜表面用甩胶机均匀地覆盖上一层光胶，将掩膜上的图案通过曝光成像的原理转移到光胶层上的工艺过程叫光刻。蚀刻是将光胶层上的平面二维图形转移到薄膜上并进而在基片上加工成一定深度微结构的工艺。采用激光刻蚀技术对材料进行表面加工，设备复杂、能耗大。3.自组装法:自组装膜是分子在溶液或气态中自发通过化学键牢固地吸附在固体基底上而形成的，体系主要包括有机硅烷/羟基化表面(Si02/S1、Al2O3Al、玻璃等);硫醇/八1^8、01;醇和胺/^;羧酸/ Al203、Ag等。自组膜中分子成键有序排列、缺陷最少、呈“结晶态”，易于近代物理和化学的表征技本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于多重显影的光子阵列薄膜的制备方法，其特征是，它包含的内容有：将聚甲基丙烯酸甲酯、聚丁二烯和两性共聚物聚十二烷基丙烯酰胺基‑6‑丙烯酰胺基己酸或两性共聚物聚甲基丙烯甲基丙烯酰氧乙基‑N,N‑二甲基‑N‑丙磺酸胺盐‑嵌段‑丙烯酰胺按质量份1:1～3：0.5比例溶解于氯仿，配置成浓度为1～5g/L的氯仿溶液，取所述的氯仿溶液5ml，放置在直径为9cm的培养皿中，向氯仿溶液表面吹拂含有水汽和乙醇的空气至溶剂挥发，得到高分子聚合物的有序阵列膜，将有序阵列膜在紫外辐照条件下老化30min，再用胶带粘贴撕掉表层结构得到针垫阵列膜，用离子溅射仪对针垫阵列膜表面喷溅一层Pt或Pd金属，然后用2mL PM...

【技术特征摘要】
1.一种用于多重显影的光子阵列薄膜的制备方法，其特征是，它包含的内容有:将聚甲基丙烯酸甲酯、聚丁二烯和两性共聚物聚十二烷基丙烯酰胺基-6-丙烯酰胺基己酸或两性共聚物聚甲基丙烯甲基丙烯酰氧乙基-N，N- 二甲基-N-丙磺酸胺盐-嵌段-丙烯酰胺按质量份1:1~3:0.5比例溶解于氯仿，配置成浓度为1~5g/L的氯仿溶液，取所述的氯仿溶液5ml，放置在直径为9cm的培养皿中，向氯仿溶液表面吹拂含有水汽和乙醇的空气至溶剂挥发，得到高分子聚合物的有序阵列膜，将有序阵列膜在紫外辐照条件下老化30min，再用胶...

【专利技术属性】
技术研发人员：何蕾茵，贾若琨，
申请(专利权)人：东北电力大学，
类型：发明
国别省市：吉林;22