足迹搜索装置制造方法及图纸

技术编号:10246312 阅读:194 留言:0更新日期:2014-07-23 23:19
本实用新型专利技术提供了一种足迹搜索装置,其特征在于,包括反射装置、偏转装置及支架装置,所述反射装置与所述偏转装置连接,所述偏转装置与所述支架装置连接。本实用新型专利技术有效的保证了灰尘足迹的呈现,一定程度上避免了常规工作方式引起的遗漏;有效的解决了小角度观察的问题,降低了人工工作强度;有效的综合人机工程学考虑,可以根据不同操作人,调节不同的观察角度;有效的适应不同人群的工作习惯,提供了蹲式和站立式两种工作方式可以选择。(*该技术在2024年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本技术提供了一种足迹搜索装置,其特征在于,包括反射装置、偏转装置及支架装置,所述反射装置与所述偏转装置连接,所述偏转装置与所述支架装置连接。本技术有效的保证了灰尘足迹的呈现,一定程度上避免了常规工作方式引起的遗漏;有效的解决了小角度观察的问题,降低了人工工作强度;有效的综合人机工程学考虑,可以根据不同操作人,调节不同的观察角度;有效的适应不同人群的工作习惯,提供了蹲式和站立式两种工作方式可以选择。【专利说明】足迹搜索装置
本技术涉及一种搜索装置,具体说,涉及一种用于搜索室内平面灰尘足迹并辅助确定位置的装置。
技术介绍
目前搜索平面灰尘足迹的方法是先打开搜索光源,然后通过眼睛直接观察平面搜索足迹。实验证明用贴近地面的小角度观察,可以更清晰地看到灰尘足迹,还能发现一些隐藏的大角度无法发现的灰尘足迹。然而对于用眼睛进行小角度观察,操作人进行起来不仅比较费力,且实际观察的角度还受到限制,导致遗漏大量足迹线索。
技术实现思路
本技术所解决的技术问题是通过提供一种搜索装置,采用反射模式,并配合掠入射照明,将平面的灰尘足迹呈现出来,并辅助确定足迹的位置。技术方案如下:一种足迹搜索装置,本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种足迹搜索装置,其特征在于,包括反射装置、偏转装置及支架装置,所述反射装置与所述偏转装置连接,所述偏转装置与所述支架装置连接; 所述反射装置包括反光镜(2),所述反光镜(2)固定安装在主框架(1)、下框架(4)及侧框架(3)中间;所述支架装置包括支脚(7),所述支架(7)安装在可调螺母(14)上,所述可调螺母(14)安装在支杆螺纹(5)上;所述偏转装置包括顶丝(9)、压缩弹簧(10)、滚珠(11)、轴(12)、偏转杆(13);所述压缩弹簧(10)设于所述顶丝(9)与滚珠(11)之间;所述偏转杆(13)贯穿所述轴(12);所述轴(12)设有一弧面槽;所述轴(12)安装于所述主框架(1)的安装孔...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:丁茂峦彭湘洲黄智宏
申请(专利权)人:北京和众视野科技有限公司
类型:新型
国别省市:北京;11

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