【技术实现步骤摘要】
【专利摘要】本专利技术公开了一种防止玻璃黏片的涂布机托盘，所述涂布机包括一固定座，所述固定座上设有一转轴，所述转轴上设有用于承载玻璃基板的所述托盘，根据所述玻璃基板与所述托盘之间的摩擦程度，将所述托盘按圆周划分为复数个区域，并对该复数个区域设置不同的表面粗糙度。通过增加玻璃基板与托盘之间摩擦较多区域的表面粗糙度，减少托盘与玻璃基板的接触面积，避免玻璃黏片。降低了托盘的更换率，延长了托盘的使用寿命，节约了成本。【专利说明】一种防止玻璃黏片的涂布机托盘
本专利技术关于一种涂布机托盘，尤其是指一种防止玻璃黏片的涂布机托盘。
技术介绍
在半导体行业的制程工艺中，旋转式涂布机(spin type coater)是光刻过程的一种必不可少的设备，结合图1所不,涂布机主要包括一固定座50,固定座50上设有一转轴60，转轴60上设有一涂布机托盘(coater chuck)70，在光刻过程中，将玻璃基板80放置在托盘70上进行光刻，光刻完成后，通过机械部件90将玻璃基板80向上托举脱离托盘70后，再进行下一步的工艺步骤。但是，设备商在制作涂布机托盘时，为避免托盘70与玻璃基板...
【技术保护点】
一种防止玻璃黏片的涂布机托盘，所述涂布机包括一固定座，所述固定座上设有一转轴，所述转轴上设有用于承载玻璃基板的所述托盘，其特征在于根据所述玻璃基板与所述托盘之间的摩擦程度，将所述托盘按圆周划分为复数个区域，并对该复数个区域设置不同的表面粗糙度。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：林永富，郑宪鸿，吴韦良，
申请(专利权)人：上海和辉光电有限公司，
类型：发明
国别省市：上海;31
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