本发明专利技术涉及一种显示器用玻璃基板及其制造方法，提供同时实现高应变点和防止熔解槽熔损的玻璃基板、同时实现高应变点和抑制失透的玻璃基板、或者同时实现高应变点和高蚀刻速度的玻璃基板及其制造方法。显示器用玻璃基板含有SiO2、Al2O3，以摩尔％表示B2O3为0～8％，R2O为0.01～0.8％，BaO/RO为0.05～1，应变点为670℃以上。显示器用玻璃基板或者包含含有SiO2、Al2O3、MgO，MgO/(RO+ZnO)为0.1～0.9，应变点为700℃以上的玻璃，且热收缩率为5ppm～75ppm。显示器用玻璃基板或者含有SiO2、Al2O3、BaO，B2O3为0～7％，BaO为1～15％，SiO2/Al2O3为6.0以下，应变点为700℃以上。RO表示(MgO+CaO+SrO+BaO)，R2O表示(Li2O+Na2O+K2O)。
【技术实现步骤摘要】
显示器用玻璃基板及其制造方法
本专利技术涉及一种显示器用玻璃基板及其制造方法。尤其是，本专利技术涉及一种低温多晶硅薄膜晶体管(以下，记载为LTPS-TFT(Low-Temperature-Polycrystalline-SiliconThin-Film-Transistor))显示器用玻璃基板。另外，本专利技术涉及一种氧化物半导体薄膜晶体管(以下，记载为OS-TFT(Oxide-SemiconductorThin-Film-Transistor))显示器用玻璃基板。更详细而言，本专利技术涉及一种上述显示器为液晶显示器的显示器用玻璃基板。或者涉及一种上述显示器为有机EL显示器的显示器用玻璃基板。此外，本专利技术涉及一种上述显示器为平板显示器的平板显示器用玻璃基板。
技术介绍
关于移动设备等所搭载的显示器，基于可降低消耗电力等原因，期待将LTPS用于制造薄膜晶体管(TFT)，但在LTPS-TFT的制造中需要400～600℃的相对高温的热处理。另一方面，对于小型移动设备的显示器近年来越来越谋求高精细化。因此，会引起像素间距偏差的制造显示面板时所产生的玻璃基板的热收缩成为问题。另外，形成OS-TFT的玻璃基板也同样地在抑制热收缩的方面成为课题。玻璃基板的热收缩率通常可通过如下方式降低：提高玻璃的应变点；提高玻璃转移点(以下，Tg)；或者降低缓冷速度。基于所述背景，揭示了为了降低热收缩率而提高玻璃的应变点的技术(专利文献1)。另外，揭示了通过调整缓冷点至应变点附近的温度区域内的平均密度曲线的斜率和平均线膨胀系数的比值而降低热收缩的技术(专利文献2)。另外，揭示了为了降低热收缩率而提高Tg的技术(专利文献3)。此外，由于近年来对于显示面板日益谋求高精细化，所以专利文献3的技术对于热收缩率的降低变得不足。为此，还揭示了使玻璃的应变点成为725℃以上的技术(专利文献4)。[现有技术文献][专利文献][专利文献1]日本专利特开2010-6649号公报[专利文献2]日本专利特开2004-315354号公报[专利文献3]日本专利特开2011-126728号公报[专利文献4]日本专利特开2012-106919号公报
技术实现思路
[专利技术所要解决的课题]近年来，由于日益谋求高精细化，所以谋求进一步减小热收缩率。在为了进一步减小热收缩率而提高玻璃基板的应变点的情况下，需要提高玻璃中的SiO2或Al2O3的含量，但结果有熔融玻璃的电阻率上升的倾向。近年来，为了使玻璃在熔解槽中有效率地熔解，有时使用直接通电加热。已知在使用直接通电加热的情况下，如果熔融玻璃的电阻率上升，则电流不仅流向熔融玻璃，还流向构成熔解槽的耐火物，结果有产生熔解槽熔损的问题的担忧。然而，在上述专利文献1所记载的专利技术中，对于熔融玻璃的电阻率并无任何考虑。因此，在欲经过利用直接通电加热的熔融来制造专利文献1所记载的玻璃的情况下，对于发生上述熔解槽熔损问题有强烈的担忧。此外，由于近年来日益谋求高精细化，谋求进一步提高玻璃的应变点，所以上述问题变得更明显。另外，由于上述专利文献2所揭示的玻璃的应变点为682～699℃，所以为了成为充分减小热收缩的平均密度曲线的斜率，需要极力减小缓冷速度，而存在生产性降低的问题。此外，专利文献2所揭示的玻璃由于失透温度为1287℃以上，所以还存在容易发生失透的问题。另外，上述问题在使用下拉法进行成形的情况下变得特别明显。此外，对于使用玻璃基板的显示器的制造，谋求提高生产性，例如也谋求提高将形成有薄膜晶体管的玻璃基板薄板化的步骤的生产性。将玻璃基板薄板化的步骤的生产性较大地取决于玻璃基板的蚀刻所耗费的时间。因此，对于显示器玻璃基板，谋求同时实现由提高蚀刻速度引起的生产性的提高和热收缩率的降低。但是，上述专利文献4所记载的玻璃基板存在虽然应变点较高但未考虑到蚀刻速度的问题。如此，如果欲降低玻璃基板的热收缩率，则会产生如下问题：由玻璃电阻率增加引起的熔解槽熔损；玻璃的失透；或者难以同时实现由蚀刻速度上升引起的生产性提高和热收缩率的降低。因此，本实施方式的目的在于提供：(1)同时实现高应变点和防止由玻璃熔解时的直接通电加热引起的熔解槽熔损的玻璃基板、或者(2)同时实现高应变点和抑制成形步骤中的失透的玻璃基板、或者(3)同时实现高应变点和高蚀刻速度的玻璃基板、和这些的制造方法。尤其是，本实施方式的目的在于提供适合于使用LTPS-TFT或者OS-TFT的显示器的显示器用玻璃基板及其制造方法。[解决课题的技术手段]本实施方式具有以下的态样。[1]一种显示器用玻璃基板，其是由如下玻璃所形成，此玻璃是含有SiO2、Al2O3，以摩尔％表示，B2O3为0～8％，R2O为0.01～0.8％，BaO/RO所表示的由式中的成分的含量计算出的值为0.05～1，应变点为670℃以上的玻璃，此处，RO表示(MgO+CaO+SrO+BaO)，R2O表示(Li2O+Na2O+K2O)。[2]根据[1]所述的玻璃基板，其中SiO2、Al2O3、BaO的含量以摩尔％表示，SiO2为60～80％、Al2O3为8～20％、BaO为0.1～15％。[3]根据[1]或[2]所述的玻璃基板，其中(SiO2+(2×Al2O3))/((2×B2O3)+RO+(10×R2O))所表示的由式中的成分的含量计算出的值为2.5以上。[4]一种显示器用玻璃基板，其是由如下玻璃所形成，此玻璃是以摩尔％表示含有SiO260～80％、Al2O38～20％、B2O30～8％，R2O为0.01～0.8％，(SiO2+(2×Al2O3))/((2×B2O3)+RO+(10×R2O))所表示的由式中的成分的含量计算出的值为2.5以上，BaO/RO为0.05～1，应变点为670℃以上的玻璃，此处，RO表示(MgO+CaO+SrO+BaO)，R2O表示(Li2O+Na2O+K2O)。[5]根据[1]至[4]中任一项所述的玻璃基板，其以摩尔％表示含有MgO0～15％、CaO0～20％、SrO0～15％、BaO0.1～15％。[6]根据[1]至[5]中任一项所述的玻璃基板，其中摩尔比SiO2/Al2O3所表示的值小于10。[7]根据[1]至[6]中任一项所述的玻璃基板，其中以摩尔％表示，B2O3+RO+ZnO所表示的由式中的成分的含量计算出的值为15～25％。[8]根据[1]至[7]中任一项所述的玻璃基板，其还含有SnO2和Fe2O3，以摩尔％表示，SnO2的含量为0.03～0.15％，SnO2和Fe2O3的含量的合计量为0.05～0.2％。[9]根据[1]至[8]中任一项所述的玻璃基板，其以摩尔％表示含有SiO266～72％、Al2O311～15％、B2O30～8％、MgO0～6％、CaO2～11％、SrO0～1％、BaO1～10％。[10]根据[1]至[9]中任一项所述的玻璃基板，其以摩尔％表示含有SiO266～72％、Al2O311～15％、B2O30～8％、MgO0～6％、CaO2～11％、SrO0～1％、BaO1～10％，BaO/RO的值为0.1～0.5，CaO/RO的值为0.2～0.6，MgO/(RO+ZnO)的值为0.15～0.6。[11]根据[1]至[10]中任一项所述的玻璃基板，其实质上不含有La2O3及Y2O3。本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种显示器用玻璃基板，其是由如下玻璃所形成，此玻璃是含有SiO2、Al2O3，以摩尔％表示，B2O3为0～8％，R2O为0.01～0.8％，BaO/RO为0.05～1，应变点为670℃以上的玻璃，此处，RO表示(MgO+CaO+SrO+BaO)，R2O表示(Li2O+Na2O+K2O)。
【技术特征摘要】
2012.12.28 JP 2012-288183;2012.12.28 JP 2012-288181.一种显示器用玻璃基板，其是由如下玻璃所形成，此玻璃是含有SiO2、Al2O3，实质上不含有As2O3、Sb2O3、Y2O3及La2O3，以摩尔％表示，B2O3为0～8％，R2O为0.1～0.8％，SrO为0～3％，BaO/RO为0.05～1，SiO2/Al2O3为5.2以下，应变点为670℃以上的玻璃，此处，RO表示(MgO+CaO+SrO+BaO)，R2O表示(Li2O+Na2O+K2O)。2.一种显示器用玻璃基板，其是由如下玻璃所形成，此玻璃是以摩尔％表示含有SiO260～80％、Al2O38～20％、B2O30～8％、SrO0～3％，R2O为0.1～0.8％，实质上不含有As2O3、Sb2O3、Y2O3及La2O3，(SiO2+(2×Al2O3))/((2×B2O3)+RO+(10×R2O))为2.5以上，BaO/RO为0.05～1，SiO2/Al2O3为5.2以下，应变点为670℃以上的玻璃，此处，RO表示(MgO+CaO+SrO+BaO)，R2O表示(Li2O+Na2O+K2O)。3.根据权利要求1或2所述的玻璃基板，其以摩尔％表示含有MgO2.1～15％、CaO0～20％、SrO0～15％、BaO0.1～15％。4.根据权利要求1或2所述的玻璃基板，其中以摩尔％表示，SiO2－(1/2×Al2O3)小于65％。5.根据权利要求1或2所述的玻璃基板，其中以摩尔％表示，B2O3+RO+ZnO为15...
【专利技术属性】
技术研发人员：市川学，小山昭浩，
申请(专利权)人：安瀚视特控股株式会社，
类型：发明
国别省市：日本;JP
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