大棚高畦全地膜覆盖提高水果黄瓜抗性和产量的栽培方法技术

本发明专利技术为一种提高设施水果黄瓜抗性和产量的栽培方法，其特征在于：所述的水果黄瓜在设施大棚条件下生长，通过高畦全地面黑地膜覆盖方法实现的。通过高畦整地(畦底面1.1m，顶面0.7m，高0.3m)，整个大棚全地面黑地膜覆盖栽培，得到生长势强，抗病好，产量明显提高的水果黄瓜植株，同时可以明显节约田间用水；所用黄瓜材料为上海市农业科学院设施园艺研究所提供；通过高畦全地面黑地膜覆盖的手段明显提高了设施水果黄瓜抗性和产量。

【技术实现步骤摘要】
一、
：本专利技术涉及提高水果黄瓜抗性和产量的栽培技术，具体是一种通过大棚内高畦全地膜覆盖提高水果黄瓜抗性和产量的栽培技术。二、
技术介绍
：近年来，设施蔬菜迅速发展，黄瓜(Cucumis sativus L.)起源于亚热带地区，是我国设施栽培的主要蔬菜之一，水果黄瓜是近年来从欧洲引进的适宜温室栽培的鲜食类黄瓜，因其品质好、产量高，被很多地区作为名特优蔬菜而广泛引种栽培，深受广大消费者喜爱。霜霉病(Pseudoperonospora cubensis)是黄瓜栽培上普遍发生的一种严重病害，具有发生快、流行迅速等特点，无论是露地还是保护地栽培，常常因此病而遭受严重损失。传统的大棚黄瓜栽培管理措施，黄瓜很容易得各种病虫害，尤其是霜霉病，这样就需要不断的用药剂进行防治，增加了生产成本和食品安全隐患，同时使黄瓜叶片大面积干枯，有效光合面积减少，产量降低。故急需即可以提高水果黄瓜抗性，又明显提高其产量的栽培方法，丰富水果黄瓜栽培技术和抗逆性的研究。三、
技术实现思路
：本专利技术提本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种提高设施水果黄瓜抗性和产量的栽培方法，其特征在于：所述的水果黄瓜在设施大棚条件下生长，通过高畦全地面黑地膜覆盖方法实现的，即整个棚内紧贴地面全部铺设地膜，高畦整理方式为：畦底面1.1m，顶面0.7m，高0.3m。

【技术特征摘要】
1.一种提高设施水果黄瓜抗性和产量的栽培方法，其特征在于：所述的水果黄瓜在设施
大棚条件下生长，通过高畦全地面黑地膜覆盖方法实现的，即整个棚内紧贴地面全部
铺设地膜，高畦整理方式为：畦底面1.1m，顶面0.7m，高0.3m。
2.根据权利要求1所述的提高设施水果黄瓜抗性和产量的栽培方法，其特征在于：...

【专利技术属性】
技术研发人员：丁小涛，余纪柱，金海军，张红梅，
申请(专利权)人：上海市农业科学院，上海科园种子有限公司，
类型：发明
国别省市：