本发明公开了一种用于X射线曝光的光刻掩模结构，该结构由低 原子序数金属薄膜、聚酰亚胺薄膜和高原子序数金属吸收体图形自下 而上依次构成。本发明同时公开了一种制备光刻掩模结构的方法。利 用本发明，因为采用了低原子序数金属铝、聚酰亚胺和高原子...