株式会社日矿材料专利技术

株式会社日矿材料共有41项专利

  • 本发明涉及电镀铜方法,其特征在于当进行电镀铜时采用纯铜作为阳极,和采用晶粒直径为10μm或更小、或为60μm或更大、或为非再结晶阳极的纯铜阳极进行电镀铜。本发明提供了电镀铜方法和在这种电镀铜方法中使用的电镀铜用纯铜阳极,在进行电镀铜时,...
  • 一种铜电解液,含有(A)和(B)作为添加剂,其中(A)为选自(a)和(b)中的至少一个的季铵盐,(a):作为表氯醇与仲胺化合物和叔胺化合物组成的胺化合物混合物的反应物的季铵盐,(b):聚表氯醇季铵盐;(B)为有机硫化合物。
  • 使用含镍溶液作为电解液进行电解时,将阳极电解液调至pH2-5,在阳极电解液中加入氧化剂将铁、钴、铜等杂质以氢氧化物的形式沉淀,或通过预备电解除去该杂质,或者加入Ni箔通过置换反应除去该杂质这些方法中无论使用一种或组合两种以上除去杂质后,...
  • 一种含有以下组分(A)至(D)的金属表面处理剂,它牢固地附着到金属底材例如铝上,即使有很薄的膜厚仍有极好的防腐蚀性能,以及有极好的可塑性和对涂料的附着力。(A)为至少一种含有3个羰基和至少1个烷氧基甲硅烷基的有机硅化合物,当组分(A)至...
  • 本发明提供一种阻止在铜图案间的化学镀镍或金形成的“桥接”。具有铜图案的电路板被浸入用于化学镀镍含有硫代硫酸盐的预处理溶液中,或预处理溶液被喷射到电路板上。预处理溶液可与添加剂,如pH调节剂、络合剂、表面活性剂或腐蚀抑制剂混合。
  • 本发明提供一种即使对粉末状物或镜面物也能容易地使用的化学镀覆方法,另外还提供了用于该方法的金属镀覆前处理剂。该前处理剂由一种通过使用具有能够与贵金属离子形成配合物的活性官能团的氮杂茂类化合物与环氧硅烷类化合物反应而获得的硅烷偶合剂构成。...
  • 在用于磁控管溅射的烧结氧化物溅射靶组件中,在中心非烧蚀区不含烧结的氧化物;所述中心非烧蚀区的背板表面涂覆有构成所述靶材的元素,或者涂覆有含有构成所述靶材的元素的焊料;并且将划分为跑道形状的该烧结氧化物靶的各个部分组合,其中易受溅射的靶材...
  • 本发明涉及溅射靶,该溅射靶的表面或两个面的磨削方向或磨削的切线方向的一部分与焊到垫板后的靶的翘曲方向平行,或处于与翘曲方向成45°角的范围内;或者,当靶为矩形时,处于焊到垫板后的靶的翘曲方向和对角线的夹角的范围内,特别是可得到这样的溅射...
  • 本发明涉及ITO溅射靶,其特征在于,靶中SnO↓[2]的含量为8.80-9.40%(重量)。本发明提供制备低电阻ITO膜的溅射靶,该靶在溅射时能抑制微电弧的出现、减少瘤状物在靶表面上的生成、及在固定条件下,在靶的使用期限内能稳定地进行溅...
  • 本发明提供了一种金属镀覆的方法,所述的方法使得甚至在难以进行化学镀覆的材料上以一种有利的方式进行化学镀覆成为可能,以及提供了一种用于这一方法的预处理剂。要镀覆的制品用一种预处理剂处理,所述的预处理剂通过以下步骤来制备:分子中含有金属捕获...
  • 传统镀覆方法不适用的树脂布、粉末、镜面体和其他物体可通过一种简单的方法用金属镀覆。根据本发明的金属镀覆方法,在用事先通过贵金属化合物(催化剂)与其官能基团能捕获金属的硅烷偶联剂反应或混合制得的预处理剂处理要镀覆的物体表面以后进行化学镀覆...
  • 本发明提供了一种水基金属表面处理剂,该处理剂适用于金属的表面处理,所述金属包括铝制品,例如预涂覆的铝片,并表现出极好的涂覆膜粘附性,柔韧性和耐酸性。该水基金属表面处理剂包括下列(1)~(3)的成分:(1)一种共聚物,该共聚物的侧链包含能...
  • 本发明的目的是提供一种表面处理剂,其使得例如在铜或铜合金上进行化学镀时降低补充所用的催化剂液体浴液的频率,并且改善这样的表面处理剂的稳定性。该表面处理剂包含通过预先使贵金属化合物与在其分子中含有具有金属捕获能力的官能团的硅烷偶联剂混合或...
  • 本发明提供使铜箔和绝缘树脂间具有优异的粘结性的表面处理剂。本发明的表面处理剂,含有烯烃系硅烷偶联剂和下述通式(1)所表示的有机硅化合物和/或通式(2)所表示的有机硅化合物作为活性组分。本发明的表面处理剂,尤其可使适于高频基板使用的表面光...
  • 一种镍合金溅射靶,其特征在于,在镍中含有0.5~10at%的钽。
  • 一种Ge-Cr合金溅射靶,其特征在于,其在含有Cr5~50at%的Ge-Cr合金溅射靶中,其相对密度为95%以上。
  • 本发明通过对熔融铸造的钽锭或钽坯进行锻造、退火和轧制操作,从而提供了由此制得的钽溅射靶,其中所述钽靶的结构含有未再结晶结构。该钽溅射靶具有高淀积速度和出色的膜均一性,产生较少的电弧和粒子,并具有出色的成膜性能,并通过改进和修正诸如锻造和...
  • 本发明涉及一种空心阴极型溅射靶,其特征在于,具有表面粗糙度Ra≤1.0μm,进一步优选Ra≤0.5μm的内侧底面。该空心阴极型溅射靶,其溅射膜的均匀性(uniformity)良好,很少产生起弧、颗粒,并且能够抑制底面的再淀积膜的剥离,成...
  • 本发明提供一种可以提高铜、钢铁和铝等金属或玻璃纤维、二氧化硅、氧化铝和氢氧化铝等无机物质与树脂的粘结性的新型咪唑有机一元羧酸盐衍生物反应产物,其制备方法,以及使用它的表面处理剂、树脂添加剂和树脂组合物。咪唑有机一元羧酸盐衍生物反应产物可...
  • 本发明是关于使钎焊材料在超声波焊接器的发声头上流动,产生超声波的同时使被加工件通过此流动的钎焊材料表面,在此被加工件上涂敷钎焊材料的涂敷钎焊材料的方法和装置的发明。可以在像溅射靶这样大面积的被加工件上,均匀而且自动涂敷低熔点钎焊材料(铟...