本实用新型属于材料表面检测技术领域，公开了一种用于材料表面纳米尺度分析的多功能离子源装置，试验台固定在超高真空腔内，内部固定有离子源发生装置

本发明属于团簇离子源及团簇离子束技术领域，公开了一种增强气体团簇离子束溅射固态靶原子产额的方法，确定尺寸的Ar气体团簇离子束和纳米Si粉体压铸靶，Ar气体团簇离子束轰击到纳米Si粉体压铸靶上，溅射产生的部分Si纳米颗粒被收集器所俘获。本...

本实用新型提供了用于添加电解质的溜槽装置，涉及电解质领域，包括支撑架，所述支撑架的顶部设置有液压缸本体，所述液压缸本体的输出端固定连接有固定轴，所述固定轴的顶部设置有溜槽装置本体，所述溜槽装置本体的内壁开设有斗槽；本实用新型通过设置液压...

本实用新型提供了一种自动添加电解质的装置，涉及自动添加电解质装置技术领域，包括安装架，所述安装架安装于电解质箱的顶端，所述电解质箱顶端的中间位置处安装有进料口，所述加料箱的底端安装有下料管，所述加料箱顶端的两侧设置有固定机构，所述加料箱...

本发明涉及等离子抛光的技术领域，更具体地，涉及一种等离子体抛光工件的方法及装置，等离子体抛光工件的方法包括如下步骤：将待抛光工件置入抛光真空室内的工件架上，并将抛光真空室抽真空；向真空室内通入惰性气体至真空室内气压达到设定值；对待抛光工...