本发明属于硬管内窥镜技术领域，具体涉及一种硬管内窥镜光学系统。本发明的硬管内窥镜光学系统沿光路方向依次包括物镜、光学转像系统、视频系统和CCD靶面：物镜对物体成倒像；光学转像系统对所述倒像进行转像，在视频系统的物方焦面上成正立实像；视频...

本实用新型属于光学检测技术领域，具体涉及一种基于光学分光系统的TDLAS气体测温检测装置。该方案采用高能半导体可协调激光器作为工作光源，激光器在特定波动可变频探测，探测范围精确较宽，经光纤准直器射出平行光光后，穿过燃烧场光束经透镜聚集，...

本实用新型涉及一种用于精密轴承保持架的加工装置，属于工装夹具技术领域。该装置包括：底座(1)、定位销(2)、定位板(3)、挡销(5)、第一压紧螺钉(6)、调节螺钉(7)、上板(8)、第二压紧螺钉(9)和压板(10)。本实用新型的加工装置...

本实用新型属于光电集成以及光电探测技术领域，公开了一种硅基二氧化硅波导和探测器垂直耦合结构，包括：衬底、波导、上包层和探测器；衬底为硅衬底，其上形成波导，波导上形成上包层，上包层上通过去薄形成凹陷，凹陷内形成波导本体电极，探测器光敏面使...

本实用新型涉及一种适用于车载平台的红外热像仪，属于光电探测技术领域。本实用新型通过对整体结构及外形的设计，以及对镜头保护窗口、镜头保护罩、镜头支架和后盖的结构及材料设计实现了一种适用于车载平台的红外热像仪，其体积小、防护性能好、便于安装...

本发明属于非晶态光学薄膜技术领域，具体涉及一种非晶态光学薄膜微区应力的测量方法，尤其涉及非晶态二氧化硅薄膜应力的测量。该方法基于各向同性材料的光弹效应，通过建立薄膜材料应力双折射椭球模型，通过测量薄膜的双折射效应，并通过椭偏光谱分析计算...

本发明属于激光粒度仪光学系统设计技术领域，具体涉及一种激光粒度仪光学系统设计方法。本发明方法设计的激光粒度仪光学系统，包括光阑、透镜和环形光电探测器，三者沿光路方向依次前后排列，所述光阑在光学系统设计时采用多位置变焦设计。本发明要解决的...

本发明属于光电成像技术领域，具体涉及一种可应对高动态范围红外图像的数字细节增强实现方法。本发明的方法包括以下步骤：步骤1.利用向导滤波器对红外图像进行基频和细节的分离；步骤2.采用自适应平台直方图均衡化对基频图像进行对比度调整；步骤3....

本发明属于光学元件精密加工制造领域，涉及一种L型ZnSe转向棱镜的加工方法，解决古典光学加工方法难以实现对复杂结构的多面体类棱镜加工的问题。主要包括下列步骤：根据棱镜完工尺寸，计算毛坯初始结构，使用砂线切割机床将板料切割出初始结构；研磨...

本发明属于图像处理技术领域，具体涉及一种高速导向滤波器在FPGA平台的实现装置。本发明的装置包括四个均值滤波器boxfilter1～boxfilter4、一个FIFO、一个延迟器和若干个加法器、乘法器、除法器。本发明解决了现有技术难以在...

本发明属于光电成像技术领域，具体涉及一种基于向导滤波器的红外图像细节增强方法和装置。本发明的方法包括以下步骤：利用向导滤波器对红外图像进行基频和细节的分离；采用自适应平台直方图均衡化对基频图像进行对比度调整；合成最终输出图像。本发明的装...

本发明属于反射率光谱测量技术领域，具体涉及一种红外剩余反射率光谱测试附件及测试方法。本发明研制专用的红外剩余反射率光谱测试附件，将需要在被测样品上两次反射的反射率测量光路转换成在被测样品上单次反射的反射率测量光路，对减反射薄膜的剩余反射...

本发明属于光学元件冷加工领域，公开了一种中小口径平面光学零件的数控成型夹具，其包括：防护垫层(1)和夹具座(2)；所述夹具座(2)包括下端与机床主轴连接的连接头和上端对光学零件有效夹持的夹持头，所述防护垫层(1)通过胶粘接在夹具座(2)...

本发明涉及激光陀螺技术领域，具体涉及一种超低损耗反射镜镀膜基板节瘤缺陷预处理方法。其通过酸、碱溶液化学清洗、超声波物理清洗与高能宽束离子束清洗相结合，能够有效去除0.5μm以上的节瘤缺陷种子源。该方法可以在有效去除表面有机污染物和污染颗...

本发明属于光学薄膜折射率调节技术领域，具体涉及一种降低陶瓷氧化物光学薄膜折射率的方法。本发明通过使用热等向压力作用的方法，实现对光学薄膜折射率减低方向的调整。该方法采用热等静压对光学薄膜进行后处理折射率改性，尤其是针对降低氧化物陶瓷光学...

本发明属于高温热处理电炉行业领域，具体涉及一种倾斜式高温旋转连续热处理管式炉，其主要包括有炉体、旋转机构、倾斜装置。炉体设有气密炉膛，炉体上端设有进料装置，下端连接收料装置，炉体内设有旋转机构连接耐高温炉胆，令其旋转，带动炉胆内物料运动...

本发明属于二氧化硅光学薄膜应力的调整技术领域，具体涉及一种离子束溅射二氧化硅光学薄膜应力的调控方法。本发明通过调整离子束溅射过程中氧气流量的大小，在保证薄膜非晶态的微结构和光学特性的前提下，实现对SiO2薄膜应力的控制，应用于超低损耗激...

本发明提出了一种高硬度的折射率可变的碳化锗(Ge1-xCx)薄膜的制备方法，属于高性能红外硬质保护薄膜制备技术。本发明采用离子束反应溅射法，通过控制离子源束压、离子源束流以及充入的反应气体流量的方法，调节制备出的Ge1-xCx薄膜的折射...

本发明属于光学薄膜低折射技术领域，具体涉及一种SiO2薄膜红外特征吸收峰数量确定方法。本发明涉及光学薄膜在红外特征吸收峰叠加情况，对叠加吸收峰数量的精确分解方法，具体提出一种对薄膜材料红外特征吸收光谱吸收峰数量的确定方法，其将不同的吸收...

本发明提出了一种提高离子束溅射法制备的类金刚石(DLC)薄膜中sp3碳原子杂化键含量工艺方法，属于红外硬质保护薄膜改性技术研究。本发明通过调节离子源束压，改变由靶材溅射出的碳原子的能量与数量，从而改变DLC薄膜中sp3碳原子杂化键含量，...