本技术公开了一种晶圆清洗抛光装置，包括工作台，工作台上设有设有抛光机构及晶圆限位紧固机构，所述晶圆限位紧固机构设置于抛光机构下方，所述晶圆限位紧固机构包括夹持座，其呈上大下小的锥体状且上侧形成敞口，所述夹持座的顶部外围设置限位座，所述晶...

本发明涉及抛光组合物技术领域，具体为一种碳化硅晶圆抛光液及其制备方法。本发明克服了传统抛光液对碳化硅晶圆表面材料去除效率低，抛光后得到的碳化硅晶圆表面质量衰减高的问题。本发明在氧化硅悬浮液制备过程中，通过控制反应物质量、反应条件，提高氧...

本发明涉及材料检测技术领域，具体为一种金刚石抛光过程中抛光液颗粒在线检测系统及方法，包括通过颗粒大小识别模型识别抛光液中颗粒的粒径信息；结合不同的光学激发条件对检测区域中颗粒进行动态激发；同步采集颗粒经过动态激发后产生的第一激发响应、第...

本发明涉及固体分析领域，具体为一种金刚石抛光研磨在线检测系统，包括：首先，同步获取待检测金刚石表面的光学传感数据及热学传感数据；随后，对采集的传感数据进行处理，以检测并识别其表面的多种物理特性，包括表面缺陷状态、热致异常分布和可自校准的...

本发明公开了一种含新型复合无机氧化剂的用于碳化硅衬底精抛抛光液，其按重量百分比计包括如下：1％‑40％的磨料、0.1％‑10％的氧化剂、0.1％‑5％的pH调节剂；磨料采用硅溶胶和复合无机氧化剂，复合无机氧化剂包括四价铈离子Ce<...