一种用于监测半导体过程的系统和方法包括多个传感器和微控制器。所述多个传感器设置在处理腔室内。微控制器从所述多个传感器接收数据，并且基于从所述多个传感器接收到的数据来测量半导体过程的均匀性。来测量半导体过程的均匀性。来测量半导体过程的均匀性。

一种用于在泄漏检测器的图形显示器上显示气体浓度值的方法，包括使用气体传感器检测气体的存在。由气体传感器生成信号，并将信号从气体传感器传输到处理器。处理接收到的信号以确定气体浓度值和相应的时间戳。当确定了气体浓度值和相应的时间戳时，以图形...

用于化学分析的方法和系统。例如，用于样品化学分析的设备包括壳体、入口、泵、多个膜和至少一个检测器。壳体包含设备的内部腔室。壳体上的入口将样品引入内部腔室。泵连接到壳体，以在内部腔室中形成部分真空。多个膜对样品的不同成分具有不同的响应时间...

一种用于监测制造系统中的制造工艺的监测装置。所述监测的制造系统包括工艺室和多个流程部件。石英晶体微天平(QCM)传感器监测制造系统的多个流程部件中的一个流程部件，并且被配置用于在制造工艺期间暴露到该一个流程部件中的工艺化学品。控制器测量...

本发明涉及使用残余气体分析仪的真空室测量。具体而言，一种用于测量真空工具的客体真空室中的气氛的方法包括：使用残余气体分析仪(RGA)来测量在主体真空室中气氛的第一组成。在测量第一组成期间，主体真空室和客体真空室并不联接。将主体真空室联接...

本文中描述了用于对分析物进行分析的系统。所述系统包括具有进样口的腔室和经布置成密封所述进样口的半渗透膜。所述半渗透膜包含第一物料和第二物料的交联混合物。所述系统还可以包括布置在真空室中的辐射源，所述辐射源与半渗透膜间隔开，并适应于用处在...

描述了一种用于监控薄膜沉积的系统。该系统包括石英晶体和用以产生调制信号的合成器。调制信号将通过石英晶体接地。该系统还包括相位检测器，用以确定来自石英晶体的调制信号的相位，从而监控薄膜沉积。调制指数可以被选择，使得在共振时，信号的高频匹配...

声速传感器由用于包含流动气体和气体混合物的密封多室外壳限定。所包含流动气体被声学方式激励，并在外壳的第一发送端与接收端之间的固定距离内测量声能。通过比较在不同的频率下通过流动气体传输的能量来确定气体的声音的速度，从而精确地确定流动通过外...

公开了使用组织的3‑D存储结构的高容量监视器晶体交换器。一种用于在处理室中的沉积过程期间对沉积到基板上的材料进行监视和检测的装置包括：存储结构，其具有在分别第一和第二端之间延伸的主轴以及在第一和第二端之间的、围绕该主轴延伸的外侧表面。多...

用于精确地计算到压电晶体坯上的沉积的薄膜层的厚度的方法，在其中可以利用相异的材料，使得能够针对采用外来材料的各种应用进行确定。此外，可以确定未知的沉积的材料的声阻抗率（或等价的z-比率）。当若干层不同材料被顺序地沉积在相同的监视石英晶体...