本发明提供了一种微波等离子体增强型化学气相沉积(MPCVD)装置。所述MPCVD装置包含反应室和气体发生器。所述反应室含有基底支架。所述气体发生器向所述反应室提供氢气。所述氢气的纯度高于4N。所述反应室被配置成促进MPCVD工艺，并且所...