项永昌专利技术

项永昌共有1项专利

  • 本发明涉及一种复合图形化衬底及其制备方法,复合图形化衬底包括蓝宝石晶片,所述晶片表面的图形根部外接圆的直径与相邻两图形中心点之间距离的最大比值为0.95,各图形上部表面暴露,各图形根部之间沉积有厚度为15-35nm的AlN层。该复合图形...
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