本发明涉及陶瓷加工技术领域，且公开了一种高导热陶瓷加工用釉面抛光装置，包括底座，前后两个支撑柱相靠近一侧均固定连接有升降机构，升降机构上设置有转动机构，转动机构底部设置有安装机构；升降机构包括移动组件和限位组件，限位组件设置于移动组件上...