本发明涉及一种通过提高OLED CVD掩膜防电弧性能的分步涂布的大面积多(分割)掩膜多重涂布方法。由此，本发明的技术要旨的特征在于，将辅助掩膜先行接合于掩膜框架后，在除形成有焊点熔核的遮蔽区域之外的表面整体进行第一次涂布；然后接合图案掩...