本技术公开了一种磁控管，包括极性相反的外磁极磁铁和内磁极磁铁，所述内磁极磁铁位于外磁极磁铁内部，并且外磁极磁铁和内磁极磁铁分别构成两个封闭的磁环，并且两个磁环一侧靠拢接触并组合形成葫芦形状；该磁控管的磁环呈葫芦状，可以增强靶材两边等离子...

本发明公开了一种XeF2刻蚀设备及使用方法，包括运输腔体、上载腔体、沉积自组装单分子层模块、等离子体刻蚀腔体和XeF2刻蚀工艺模块，所述运输腔体内部设有机械手，并且分别与上载腔体、沉积自组装单分子层模块、等离子体刻蚀腔体和XeF2刻蚀工...

本发明公开了一种磁控管，包括极性相反的外磁极磁铁和内磁极磁铁，所述内磁极磁铁位于外磁极磁铁内部，并且外磁极磁铁和内磁极磁铁分别构成两个封闭的磁环，并且两个磁环一侧靠拢接触并组合形成葫芦形状；该磁控管的磁环呈葫芦状，可以增强靶材两边等离子...