苏州瑞格思创光电科技有限公司专利技术

苏州瑞格思创光电科技有限公司共有17项专利

  • 一种定位结构及安装有该定位结构的机床
    本实用新型提供了一种定位结构以及安装有该定位结构的机床,包括底座、固定于所述底座上的驱动机构、由所述驱动机构驱动同步收缩或同步外扩的若干定位单元,所述驱动机构包括铰接固定于所述底座上的单个气缸、转动连接于所述底座上且由所述气缸驱使转动的...
  • 一种丝杆装配装置及雕铣雕刻机
    本实用新型属于雕铣雕刻机床设计技术领域,公开了一种丝杆装配装置及雕铣雕刻机。其中的丝杆装配装置包括:支撑座,与驱动丝杆转动的电机相对而设,固定安装于固定底座上;轴承固定座,位置可调的安装于所述支撑座上;支撑轴承组件,固定套设于所述丝杆未...
  • 一种丝杆装配装置、雕铣雕刻机及丝杆调试方法
    本发明属于雕铣雕刻机床设计技术领域,公开了一种丝杆装配装置、雕铣雕刻机及丝杆调试方法。其中的丝杆装配装置包括:支撑座,与驱动丝杆转动的电机相对而设,固定安装于固定底座上;轴承固定座,位置可调的安装于所述支撑座上;支撑轴承组件,固定套设于...
  • 本实用新型提供一种精雕机,用于对玻璃进行钻削和磨削加工,所述精雕机包括基座、设置于所述基座上的固定架、设置在所述固定架前侧的第一导轨,以及能够沿所述第一导轨在X轴方向上移动的底板,所述底板上设有主轴组件,所述主轴组件仅包括设置在所述底板...
  • 本实用新型提供一种真空滤液装置,所述真空滤液装置包括真空管路以及在高度方向呈高低排布的第一容器与第二容器,所述第一容器的底部设有连通所述第二容器的连接管,所述连接管上设有第一控制阀;所述真空管路包括真空吸入管、真空吸出管以及将所述第二容...
  • 本实用新型提供一种真空滤液装置,所述真空滤液装置包括真空管路以及在高度方向呈高低排布的第一容器与第二容器,所述第一容器的底部设有连通所述第二容器的连接管,所述连接管上设有第一控制阀;所述真空管路包括真空吸入管、真空吸出管以及将所述第二容...
  • 一种玻璃雕铣机的控制加工方法
    本发明提供一种玻璃雕铣机的控制加工方法,通过光学检测系统检测得到位于检测区域的刀具的外形尺寸数据,进而得到刀具的磨损量X,并根据刀具的磨损量X控制主轴移动进给补偿;所述加工方法还包括控制启动主轴旋转,检测得到刀具在不同转速时的偏摆值,并...
  • 本发明提供一种真空滤液装置及其控制方法,所述真空滤液装置包括真空管路以及在高度方向呈高低排布的第一容器与第二容器,所述第一容器的底部设有连通所述第二容器的连接管,所述连接管上设有第一控制阀;所述真空管路包括真空吸入管、真空吸出管以及将所...
  • 本实用新型公开一种水平调整固定装置,包括底座、与所述底座相对设置的调整平台、安装在所述底座上并用以调整所述调整平台水平度的调整装置以及固定所述调整平台的固定装置;所述调整平台具有与所述固定装置相配合的呈圆弧面的配合部,所述固定装置具有抵...
  • 本实用新型公开了一种固定装置,包括:龙门;二维滑台,设于所述龙门的侧面,所述二维滑台包括X轴方向上的第一导轨组件及位于第一导轨组件上的第一平移台,固定于第一平移台Z轴方向上的第二导轨组件及位于第二导轨组件上的第二平移台;其中,所述固定装...
  • 本实用新型公开了一种雕铣机,包括:主轴部,所述主轴部包括主轴基座,固定于所述主轴基座上的主轴以及可拆卸固定于所述主轴上的刀具;驱动部,固定于所述主轴基座上;其中,所述雕铣机还包括有可均匀出水的冲水装置,所述驱动部至少驱动所述冲水装置移动...
  • 本实用新型公开了一种用于检测导轨平行度的检测装置,其包括:基座;置于所述基座上的基准导轨及与所述基准导轨平行设置的从动导轨;支架,所述支架一端连接于所述基准滑轨上,其可沿所述基准滑轨滑行;滑台,设于所述支架的另一端,所述滑台上设置有千分...
  • 本实用新型涉及一种防水装置,用于雕铣机上,雕铣机包括电荷耦合器件图像传感器部件,防水装置包括围设在电荷耦合器件图像传感器部件外围的保护罩、固定在保护罩上且内部具有高压气体的气流喷射部件,保护罩包括收纳电荷耦合器件图像传感器部件且内部充满...
  • 本实用新型涉及一种上下料装置,包括基座、设置在基座上且沿基座的纵长方向延伸的滑轨组件、设置在滑轨组件上的移动工作台,移动工作台于滑轨组件上沿基座的纵长方向移动,移动工作台包括设置在滑轨组件上的工作台座、自工作台座沿基座的纵长方向向外延伸...
  • 本发明揭示了一种定位装置,所述定位装置能够实现三维寻的,具有定位精度高、绝对位置精度和重复定位精度都可以达到±0.1μm、拖动速度快、加速度高、安装简单等优点。
  • 本发明涉及一种防水装置,用于雕铣机上,雕铣机包括电荷耦合器件图像传感器部件,防水装置包括围设在电荷耦合器件图像传感器部件外围的保护罩、固定在保护罩上且内部具有高压气体的气流喷射部件,保护罩包括收纳电荷耦合器件图像传感器部件且内部充满高压...
  • 本发明涉及一种上下料装置,包括基座、设置在基座上且沿基座的纵长方向延伸的滑轨组件、设置在滑轨组件上的移动工作台,移动工作台于滑轨组件上沿基座的纵长方向移动,移动工作台包括设置在滑轨组件上的工作台座、自工作台座沿基座的纵长方向向外延伸形成...
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