本发明涉及半导体制造技术领域，尤其是涉及一种图形化蓝宝石衬底及其制备方法。所述图形化蓝宝石衬底，包括蓝宝石平片和在其表面形成的图形化的含硅有机涂层。所述制备方法包括如下步骤：(a)在蓝宝石平片表面涂覆形成含硅有机涂层；(b)在含硅有机涂...