一种用于磁阻或巨型磁阻读写头中顶极尖宽度控制的顶表面成像技术，在改进的多维控制的工序中采用一多层结构形成厚光致抗蚀剂。为此，用改进的分辨率来为相对厚的上光致抗蚀剂层构图，然后，用上光致抗蚀剂层作为反应离子蚀剂掩模形成中间金属或陶瓷层，接...