本公开公开了离子注入机的校准设备及校准方法，所述校准设备包括：基准装置，所述基准装置包括具有基准狭缝的基准柱，所述基准狭缝的中心面与所述离子注入机的理论离子束流中心位置沿纵向方向对准；和激光生成装置，所述激光生成装置用于通过所述基准装置...

本公开提供一种掩膜的制造方法和半导体器件的制造方法，涉及半导体技术领域，掩膜的制造方法包括：提供包括第一和第二掩膜层的掩膜层，第二掩膜层有第一掩膜部和与第一掩膜部均相邻的第二和第三掩膜部；在相邻掩膜部间贯穿第二掩膜层的第一开口填充绝缘部...