沈阳森玺达机械制造有限公司专利技术

沈阳森玺达机械制造有限公司共有2项专利

  • 本技术公开了一种数控加工中心用冷却水净化装置,包括:外壳和顶盖,所述外壳的内腔形成储水腔(a),且所述顶盖与外壳形成封闭整体,所述顶盖的顶端安装有回水口,所述回水口的底端安装有预过滤管道,所述预过滤管道的底端装配有离心筒,所述离心筒的外...
  • 本技术公开了一种线切割用循环去离子水切割平台,包括:外壳和切割平台,所述外壳的内腔由上至下分别安装有絮凝腔、过滤腔、去离子腔和储水腔,所述絮凝腔的内腔顶端安装有投放口的一端,且投放口的另一端延伸出所述外壳的外壁,所述絮凝腔和过滤腔通过连...
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