一种固体润滑技术领域的磁控溅射制备减摩ＩＦ－ＷＳ↓［２］／ＩＦ－ＭｏＳ↓［２］复合薄膜的方法。本发明采用ＩＦ－ＷＳ↓［２］靶材与ＩＦ－ＭｏＳ↓［２］共溅射，通过调节二者的功率，溅射气压、偏压制备出减摩ＩＦ－ＷＳ↓［２］／ＩＦ－ＭｏＳ↓［...

一种材料技术领域的铜互连阻挡层材料ＴａＷＮ薄膜，包含的组分及重量百分比为：Ｗ１３．６％～２２．７％，Ｎ９％，其余为Ｔａ。当Ｗ１６．４～１８．２％时，ＴａＷＮ薄膜阻挡性能到８５０℃退火３０分钟才失效。与现有技术相比，本发明ＴａＷＮ薄膜，保...

本发明公开了一种聚酰亚胺薄膜上激光诱导选择性化学镀的方法。将聚酰亚胺薄膜先进行改性制成表面束缚银离子的聚酰亚胺薄膜，然后将表面束缚银离子的聚酰亚胺薄膜用聚焦激光进行选择性辐射，再经过稀酸处理及高温加热后进行化学镀可得到聚酰亚胺薄膜表面上...

本发明涉及一种镍或镍合金粉末表面包覆蜂窝状金属钴或钴合金的方法，首先对镍或镍合金粉末进行预处理，清洗其表面氧化层后再均匀分散在水溶液中，为镀覆反应提供基体界面，然后将预处理后的粉末放入含钴盐的镀液中，利用化学镀工艺使粉体表面发生氧化还原...

一种陶瓷材料技术领域的激光熔覆原位合成制备生物陶瓷复合涂层的方法，首先制备钙盐复合粉末，把钙盐复合粉末直接堆覆于金属基体表面形成预制涂层，然后用高能激光束对钙盐复合粉末与金属基体进行激光熔覆工艺处理，在激光光热力学与光化学的作用下，钙盐...

一种薄膜技术领域的调节磁控溅射反应气体分压制备Ｔｉ－Ｓｉ－Ｎ膜的方法。本发明采用直流反应磁控溅射，溅射靶为Ｔｉ－Ｓｉ镶嵌靶，工作气氛为氮气和氩气的混合气氛，Ｔｉ－Ｓｉ镶嵌靶上Ｔｉ、Ｓｉ有效溅射面积比固定，总工作气压固定，通过在０．００２...

一种薄膜技术领域的单靶磁控溅射Ｃｕ↓［１－ｘ］Ｃｒ↓［ｘ］合金薄膜的方法。本发明首先把铜板加工成溅射仪要求的铜靶，并按照溅射仪的溅射参数在铜靶的溅射区靶径上钻不同数量和不同直径的圆形或者锥形小孔，并附加以靶材的挡片，同时将铬金属加工成相...

一种微细加工技术领域的顺次多种等离子体处理碳纳米管薄膜表面形貌的方法。本发明用不同种刻蚀气体顺次对碳纳米管薄膜进行等离子体表面处理，具体为：先是一次或者多次使用化学反应性气体，对碳纳米管薄膜进行反应离子辅助等离子体处理；然后使用物理作用...

一种镀覆技术领域的在复杂形状刀具上制备金刚石薄膜的化学气相沉积方法，在热丝ＣＶＤ沉积金刚石薄膜的基础上，采用螺旋形热丝结构进行复杂形状刀具金刚石涂层的沉积，将复杂形状刀具竖直放入螺旋形热丝结构的内部，其轴心和螺旋形热丝结构的中心相重合，...

一种预抽真空氮基气氛保护下无内氧化的渗碳方法，属于金属材料热处理领域。本发明通过向设有炉内循环风机的热处理炉进行预抽真空至１０－１００Ｐａ，通入高纯氮气，再将炉温升至９００－１０５０℃，保温后再通入乙炔气进行渗碳，炉膛内氮气的压力为１×...

一种镁合金表面离子注入改性方法，用于表面处理技术领域。方法如下：将镁合金表面用砂纸打磨，去除表面污染物，再用酒精清洗，在空气中自然干燥，然后放入离子注入机的真空室中，注入钽离子，钽离子注入剂量在１×１０↑［１６］ｉｏｎｓ／ｃｍ↑［２］到...

本发明公开了一种聚酰亚胺薄膜表面化学镀的方法。先用电脑画出所需图形的反相图，然后将聚酰亚胺薄膜用激光打印机打印出反相图形，把打印好图形的聚酰亚胺薄膜先用强碱处理再用硝酸银溶液处理来达到活化目的，除去薄膜表面的墨粉后进行化学镀，得到聚酰亚...

一种镁合金表面离子注入提高抗氧化性的方法，用于表面处理技术领域。方法如下：先将镁合金表面抛光，再用酒精清洗，然后放入离子注入机的真空室中，向合金表面注入钇离子，钇离子注入剂量在５×１０↑［１６］ｉｏｎｓ／ｃｍ↑［２］到５×１０↑［１７］...

本发明涉及一种纳米贵金属增强蚕丝纤维基复合材料的制备方法，基于生物材料自身还原技术，选用桑蚕原丝纤维作为生物还原模板和基体材料，首先对桑蚕原丝进行水热脱胶预处理激活其生物活性，再将脱胶蚕丝纤维在适当的贵金属盐溶液中进行浸渍优化处理，通过...

一种反应磁控溅射ＴｉＮ／ＳｉＯ↓［２］硬质纳米多层涂层的制备方法，属于工模具涂层制备技术领域。本发明采用多靶磁控溅射涂层制备设备，在低气压的Ａｒ和Ｎ↓［２］混合气氛中，由独立的射频阴极分别控制金属Ｔｉ靶和化合物ＳｉＯ↓［２］靶，通过基体...

一种ＺｒＯ↓［２］／ＴｉＮ硬质纳米多层涂层，属于陶瓷涂层领域。本发明由ＺｒＯ↓［２］层和ＴｉＮ层交替沉积在硬质合金、陶瓷或金属基底上形成，ＺｒＯ↓［２］层的厚度为２～８ｎｍ，ＴｉＮ层厚为０．４～１．２ｎｍ，涂层总厚度为２～５μｍ。本发明...

一种ＶＮ／ＳｉＯ↓［２］纳米多层涂层及其制备方法，属于陶瓷涂层领域。ＶＮ／ＳｉＯ↓［２］高硬度纳米多层涂层由ＶＮ层和ＳｉＯ↓［２］层交替沉积在金属、硬质合金或陶瓷基底上形成，ＶＮ层的厚度为２～１０ｎｍ，ＳｉＯ↓［２］层厚为０．３～１．２...

一种ＡＩＮ／ＳｉＯ↓［２］纳米多层硬质薄膜，属于陶瓷薄膜领域。本发明由ＡＩＮ层和ＳｉＯ↓［２］层交替沉积在金属或陶瓷基底上形成，ＡＩＮ层的厚度为３～６ｎｍ，ＳｉＯ↓［２］层厚为０．４～１．２ｎｍ。本发明ＡＩＮ／ＳｉＯ↓［２］纳米多层硬质...

本发明涉及的是一种用于切削工具技术领域的用于切削工具的ＴｉＮ／ＡｌＯＮ纳米多层涂层。由ＴｉＮ层和ＡｌＯＮ层交替沉积在硬质合金、陶瓷或金属基体上形成，ＴｉＮ层的厚度为３～５ｎｍ，ＡｌＯＮ层厚为０．３～０．８ｎｍ，涂层总厚度为２～５μｍ。本...

本发明涉及的是一种用于切削工具技术领域的ＴｉＮ／ＡｌＯＮ纳米多层涂层反应磁控溅射制备方法。分别采用直流阴极控制的Ｔｉ靶和射频阴极控制的Ａｌ↓［２］Ｏ↓［３］靶，通过在Ａｒ气和Ｎ↓［２］气的混合气氛中的反应溅射分别获得ＴｉＮ和ＡｌＯＮ沉积...