上海鸿宇纳米科技发展有限公司专利技术

上海鸿宇纳米科技发展有限公司共有3项专利

  • 一种高频段微波二极管,以P#+[+]P(或N#+[+]N)型单晶硅为基底,在所述基底上沉积富氢微晶硅薄膜与单晶硅形成异质结,通过调节富氢微晶硅薄膜的各项参数,可以得到在较高工作温度下正常工作的高频段微波二极管,并且其响应速度快、制作工艺...
  • 本发明是一种制备绝缘体上硅结构的方法,所述的方法属于半导体器件制备工艺。本发明利用化学汽相沉淀方法,在绝缘层上生长一层富氢微晶硅薄膜,从而形成性能良好的绝缘体上硅结构,本发明所述的方法与传统的集成电路工艺兼容,工艺简单,成本低廉。
  • 一种半导体压力传感器,由衬底层组成,其特征在于:在所述的衬底层上方设置有隔离层、压阻层,所述的衬底层是单晶硅层,所述的隔离层是二氧化硅层,所述的压阻层是微晶硅薄膜层。
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