本发明涉及一种对放置在炉子腔室中的衬底上的硅片进行P型掺硼的方法，腔室的一端包括壁，用于引入反应气体和气态形式硼前驱物的运载气体的装置位于该壁中，由此所述方法包括以下阶段：a)在腔室中，在1kPa-30kPa的压力下并在800℃-110...

本发明涉及一种用于自动装卸在热处理装置（１），如扩散炉中待进行热处理的的装置。所述装置包括至少一悬臂支架２，用于接收所有进料或负荷以及把负荷送进炉子。所述负荷包括安排在石英舟中的硅片（４）。该装置包括一多筐自动传送设备，该设备在一接收区...

本发明涉及一种对硅片（４）进行掺杂、扩散或氧化的方法，所述硅片置于炉子（１）的炉室（２）之中，炉室中至少引入一种气体以进行上述掺杂、扩散或氧化作业过程。本发明的特征在于，方法包括：在将气体引入和通过炉子（１）的炉室（２）中的同时，连续地...