用来对半导体基底(2)进行化学处理的设备(1)具有预处理装置(5)，其沿半导体基底(2)的传送方向(3)设置在第一涂敷装置(8)和第二涂敷装置(9)之前。预处理装置(5)用来在半导体基底(2)上生成环绕的边界区域，因此将随后借助第一涂敷...

本发明涉及用于化学处理半导体衬底的装置和方法。其中，一种用于化学处理半导体衬底(2)的装置(1)具有预处理装置(4)，该预处理装置在该半导体衬底(2)的传输方向(3)上设置在第一涂敷装置(5)和第二涂敷装置(6)之前。该预处理装置(4)...

本实用新型涉及用于化学处理半导体衬底的装置。其中，一种用于化学处理半导体衬底(2)的装置(1)具有预处理装置(4)，该预处理装置在该半导体衬底(2)的传输方向(3)上设置在第一涂敷装置(5)和第二涂敷装置(6)之前。该预处理装置(4)用...