一种用于使到结合有卡口的液态低温剂泵的热泄漏最小化的系统和方法，该系统和方法包括接纳在凹形卡口部分中的凸形卡口部分，该凹形卡口部分和该凸形卡口部分各自具有圆形截面并且包括围绕内管的外管、以及在该内管和该外管之间处于真空下的环形空间，其中...

一种用于将富氧工艺气体密封在压缩机或膨胀器内的气体密封件，该气体密封件包括具有旋转元件的转子部件和具有静止元件的定子部件。其中，旋转元件的至少一部分包括第一迷宫密封件的齿。其中，第一迷宫密封件是第一密封区的一部分。其中，静止元件的至少一...

一种调节MoCI5的方法，该方法包括将MoCI5的容器加热至从大约140°C至190°C范围内的温度持续从大约2小时至大约100小时范围内的一段时间以生产含MoCI5组合物，该含MoCI5组合物包含如通过X射线衍射测定的大约10%重量至...

提供了一种用于改装现有蒸汽甲烷重整器（SMR）以进行氨裂解的方法和设备。在这个实施例中，该现有SMR可以包括预重整器、脱硫单元、炉（50）、废热回收段、水煤气变换反应器、变压吸附（PSA）单元，其中，该炉（50）具有多个SMR管和多个燃...

本发明涉及一种用于填充低温液体接收储罐的方法，该方法在分配场所中执行，分配场所包括用于停放源储罐和牵引车的第一区和不同于第一区的用于填充接收储罐的第二区，第一区包括减压区和不同于减压区的等待区，该方法包括以下步骤：使用牵引车将源储罐从第...

本发明涉及一种从烟道气中除去二氧化碳的方法。具体地，本发明涉及一种通过用溶剂洗涤而从烟道气中除去二氧化碳的方法，其中用于再生用过的溶剂的能量消耗较低。根据本发明，采用载有二氧化碳的洗涤剂的两步再生序列，其包括可使用酸性再生催化剂或不同的...

本发明涉及一种用于填充多个低温液体接收储罐的方法，所述低温液体接收储罐特别是交通工具的低温液体燃料储罐，所述低温液体特别是液态氢，该方法使用多个可移动的源储罐，该方法包括以下步骤：将第一量的低温液体从第一源储罐转移到第一接收储罐，并且同...

本发明涉及一种用于通过含碳原料的部分氧化来生产合成气的反应器、特别是气流床气化器。该反应器包括反应空间、冷却空间和将反应空间和冷却空间流体连接的气体通道。气体通道具有邻近反应空间的气体入口区域和邻近冷却空间的气体出口区域。冷却介质的供给...

披露了一种化学品，其适合用作用于含Mo或Cr材料的气相沉积的挥发性前体，该化学品由下式中的一个表示：a)式I，b)式II。证明了该化学品用于气相沉积的用途。

在一种生产氨合成气的方法中，含有氢气、氩气、一氧化碳、二氧化碳和甲烷的气体混合物来源于与燃烧单元(H)组合的重整器(R)，处理所述混合物(1)以除去其所含的二氧化碳，然后在绝热室(CB)中的深冷分离单元中冷却(3、5)和分离，将所述混合...

本发明涉及一种用于制氢的方法，该方法包括用于产生合成气的蒸汽甲烷重整(SMR)步骤。在该方法中，吸热反应所需的热量部分地通过将电能转化成热量以得到第一热量部分来提供，并且部分地通过燃烧燃料以得到第二热量部分来提供。合成气经过水煤气变换步...

本技术公开了一种精馏塔系统，包含高压塔和低压塔、第一及第二冷凝蒸发器、第一及第二减压装置、一液氮泵，高压塔接收冷却并纯化的进料空气，并在塔底产生高压塔底富氧流，在塔顶产生高压富氮蒸汽；低压塔接收高压塔底富氧流，并在塔底产生低压塔底富氧流...

本技术提供一种保护结构和冷箱组件。保护结构用于安装在空分冷箱外。其中，保护套由多个槽形套拼接而成，每个槽形套限定沿阀杆的杆长方向延伸的凹槽，并且在阀杆的杆周方向上的每一侧均设置有向外凸伸的凸边，多个槽形套沿杆周方向拼接，使得多个槽形套的...

本发明涉及包括反应器容器、具有多个管的管束、第一支承板和第二支承板的装置，管束包括多个第一管组和多个第二管组，第一管组的每个管均延伸穿过第一支承板的相应的管接纳开口，第一支承板具有多个流体交换孔，每个第二管组穿过第一支承板中的相应的一个...

本发明涉及用于反应器容器中的管的支承板。一种装置(1.1,1.2)，包括反应器容器(2)、具有多个管(4)的管束(3)和至少一个支承板(5)，其中，所述管束(3)设置在所述反应器容器(2)中，其中，所述支承板(5)横向于所述反应器容器(...

本发明涉及一种用于生产液化氢的设备，该设备包括：构造成生产氢气的氢气发生器例如电解器；液化器；将氢气发生器的氢气出口连接到液化器的入口的进料管线，该液化器包括具有循环回路的制冷器，该循环回路构造成供应冷却功率并冷却来自进料管线的氢气以使...

本发明涉及包括反应器容器、具有多个管的管束、第一支承板和第二支承板的装置，管束包括第一、第二和第三管组，第一管组的管穿过第一支承板的相应管接纳开口，第一支承板具有多个流体交换孔，第二管组的管穿过第一支承板中的相应一个孔，第二管组的管穿过...

本发明涉及余热锅炉中的温度控制装置。组件(1)包括反应器(2)、余热锅炉(3)、致动器(4)、轴(5)、轴密封元件(6)、轴向轴承(7)和温度控制装置(8)，其中，余热锅炉连接到反应器，所述轴、轴密封元件和轴向轴承布置在公共轴线(9)上...

披露了一种用于通过使用沉积在衬底中的一个或多个含硅膜的顶部上的图案化掩膜层选择性地蚀刻该一个或多个含硅膜以形成高纵横比孔的蚀刻方法，该方法包括：将该衬底安装在加工腔室中；将含有含氧氢氟烃的蒸气的蚀刻气体引入该加工腔室中；将该蚀刻气体转变...

披露了一种用于通过使用沉积在衬底中的一个或多个含硅膜的顶部上的图案化掩模层选择性地蚀刻该一个或多个含硅膜以形成孔的蚀刻方法，该方法包括：将该衬底安装在加工腔室中；将含有含氧氢氟烃的蒸气的蚀刻气体引入该加工腔室中；将该蚀刻气体转变为等离子...