本申请提供了一种纳米压印模板、其制备方法及压印方法，可以应用于微纳制造技术领域。该纳米压印模板，包括：模板本体，模板本体包括多个功能区；每个功能区包括多个特征区，特征区包括多个图形特征，其中，相邻两个功能区的距离为相邻两个特征区的距离的...

本申请提供了一种纳米压印设备压印头与工件台之间的调平装置，属于纳米压印技术领域。该纳米压印设备压印头与工件台之间的调平装置包括下压板、印头和球铰机构，所述印头通过所述球铰机构与所述下压板连接，所述印头和所述下压板之间设置有防转机构，所述...

本申请提供了一种双工件台纳米压印设备，属于纳米压印技术领域。该双工件台纳米压印设备包括工作台，所述工作台上设置有纵移模组，所述工作台上纵向设置依次设置有压印工位、预对位工位和喷胶工位，所述工作台上横向设置有左右两个工件台，两个所述工件台...

本申请提供了一种纳米压印设备及模板装载方法，可以应用于半导体制备技术领域。该纳米压印设备包括：载模台，用于放置掩模板；移动导轨，用于承载载模台，并使载模台能沿移动导轨移动至第一预设位置和第二预设位置；光学对准部件，设置于第一预设位置的正...

本申请提供了一种压印头控制方法及纳米压印设备，可以应用于半导体制备技术领域。该压印头的控制方法包括：在压印头朝向基材运动过程，控制压印头采用位移控制模式和/或速度控制模式运动，位移控制模式是指压印头移动预设距离的运动模式，速度控制模式是...

本申请提供了一种光刻对准标记、制备方法、对准装置和对准方法，可以应用于光刻对准技术领域。该光刻对准标记包括：在第一对准面的上表面沿第一方向周期性排列的多条第一直条纹；以及在第二对准面的下表面沿第一方向周期性排列的多条第二直条纹；第一直条...

本申请提供了一种纳米压印模块、自由度调节方法及纳米压印机，可以应用于半导体设备技术领域。该纳米压印模块包括：促动器第一端连接件，包含相对的第一上端面和第一下端面，第一下端面上不共线的三个点分别与不同的促动器的第一端连接；三个促动器，每个...

本发明属于微纳米器件制造的光刻技术领域，具体涉及一种基于摩尔条纹的光刻对准系统及方法。系统包括：模板与衬底，表面分别设四角分布的粗对准标记和四边分布的摩尔条纹标记；照明成像单元含相机、远心镜头组及同轴光源；位移机构驱动模板或衬底移动。方...

本申请实施例提供了一种用于制作光电探测器的纳米压印模板及其制备方法，涉及微纳加工领域。该纳米压印模板，包含：凸起的台面；台面上具有至少一个压印单元；每个压印单元包含凹陷的第一深度平台、凹陷的第二深度平台和凹陷的第三深度平台；第一深度平台...

本申请提供了提高生产效率的一种纳米压印设备及压印方法，可以应用于微纳制造技术领域。该纳米压印设备包括：至少两个平台，每个平台用于放置基板；平台移动导轨，设有预定位置，并用于承载至少两个平台，使至少两个平台能沿平台移动导轨移至或移出预定位...

本发明公开一种步进式重复纳米压印设备、控制方法及控制系统，涉及半导体制备技术领域。纳米压印设备的压印衬底包括呈阵列式排布的多个待压印区域，纳米压印设备包括位移模块和沿第一水平方向间隔设置的滴胶模块和压印模块，位移模块的顶部用于放置压印衬...