本发明涉及利用等离子体用于处理物体(3)的系统(1)，包括：包括将待处理的物体置于其上的支撑部的真空处理室(10)；至少两个子组件(21，22)，每个子组件包括至少一个能够产生等离子体的等离子体源(210，220)，并对其提供射频功率P...