本发明属于等离子喷涂设备技术领域，且公开了一种基于气压波动等离子喷涂送粉检测送粉补偿装置，包括等离子喷涂主体、送粉组件和粉料输送组件；所述粉料输送组件安装在等离子喷涂主体内部，所述送粉组件设置在等离子喷涂主体上且能与粉料输送组件连通；所...

本发明公开了一种等离子喷涂送粉器压力调节机构及其调节方法，包括：送粉器本体，所述送粉器本体的右侧安装有与其相适配的压力表，供气管，所述供气管安装在送粉器本体的左侧且与其相互连通。本发明通过导料管、连接头、驱动机构、第一电动推杆和调节板的...

本实用新型公开了一种用于清除喷砂磨料异物的装置，属于喷砂机技术领域，包括壳体；传送带，所述传送带安装在壳体内；喷砂机本体，所述喷砂机本体输出端正对传送带上表面；清理组件，所述清理组件包括风机、吹风管、过滤网和收集盒，所述风机安装在壳体内...

本实用新型提供了一种用于改善喷涂涂层粗糙度的装置，其属于环境检测领域，其包括：箱体；改善粗糙度组件；所述改善粗糙度组件包括安装在箱体上的电机，所述电机的输出端安装有与箱体转动连接的螺杆，所述螺杆上套设有与其螺纹连接且被限位的滑块，所述滑...

本发明提供了一种ITO溅射靶材的制备方法，包括以下步骤：将纯度为99.995%的In2O3粉体和SnO2粉体按质量比为(90～97):(10～3)进行湿法球磨混合，球磨过程加入少量分散剂和粘结剂，得到高固含量、高流动性能的ITO浆料；将...

本发明提供了一种ITO陶瓷靶材的制备方法，包括以下步骤：将纯度为99.99%的In2O3粉末和SnO2粉末按质量比为(90～97):(10～3)进行湿法球磨混合，球磨过程加入少量有机添加剂，得到流动性能良好的ITO浆料；将所得的ITO浆...