本实用新型涉及原子层沉积技术领域，且公开了一种等离子体增强的原子层沉积设备，包括真空反应腔、反应气、惰性气体瓶、前驱物输运模块、加热模块、分子真空泵、真空泵和废气处理系统，所述真空反应腔的上端固定连通有等离子发生腔，所述等离子发生腔的上...