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卢在相专利技术
卢在相共有2项专利
硅薄膜退火方法和由该方法制造的多晶硅薄膜技术
本发明公开了对其中连续地形成绝缘层和硅薄膜的衬底中的硅薄膜进行退火的方法。该方法包括在加工过程中衬底不变形的温度范围内加热或预热硅薄膜,使得在其中产生本征载流子,从而降低电阻值到可能进行焦耳加热的值;和对经过预热的硅薄膜施加电场以通过载...
避免利用焦耳加热的快速退火期间产生电弧的方法技术
本发明揭示一种在一热处理需求材料、介电层及导电层构成的一混合结构内之快速回火法,包含在该热处理需求材料的一预定部分上之快速回火期间,利用对该导电层施加一电场瞬间产生高热造成焦耳加热效果,该热处理需求材料与该导电层之间的该电位差设定低于该...
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