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LMT光学测量技术柏林有限责任公司专利技术
LMT光学测量技术柏林有限责任公司共有3项专利
用于对安装在物体中的光辐射源的至少一个光学技术或辐射度量学特征量进行与方向相关的测量的方法和测角辐射计技术
本发明涉及一种方法和一种测角辐射计,其用于对安装在物体(1)中的光辐射源(2)的至少一个光学技术或辐射度量学特征量进行与方向相关的测量。该方法包括:将物体(1)布置在转台(3)上,该转台限定第一坐标系,物体(1)被布置在转台(3)上使得...
用于取决于方向地测量光学辐射源的至少一个照明技术或辐射测量学特征量的方法和测角辐射计技术
本发明涉及一种用于取决于方向地测量光学辐射源(2)的至少一个照明技术或辐射测量学特征量的测角辐射计,包括:用于使辐射源(2)在测量过程中围绕第一轴(31)和围绕垂直于第一轴(31)的第二轴(32)移动的装置;均匀反射的测量壁(5),其上...
用于取决于方向地测量光学辐射源的至少一个光度学或辐射测量学特征量的方法和测角辐射计技术
本发明涉及用于取决于方向地测量光学辐射源(S)的至少一个光度学或辐射测量学特征量的方法和测角辐射计。在此,光度学或辐射测量学特征量的辐射方向采用平面系统(A、B、C)以及在所观察的平面内给出了辐射方向(α、β、γ)的辐射角度(α、β、γ...
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