六安欣奕华半导体材料有限公司专利技术

六安欣奕华半导体材料有限公司共有2项专利

  • 本申请提供一种酸淬灭剂及其制备方法、负性光刻胶组合物及其应用,涉及光刻胶技术领域。本申请提供的酸淬灭剂三(5,7‑二硝基苯并三唑‑2‑基)胺具有三维螺旋桨结构,三个苯并三唑环以中心氮为轴呈螺旋状排列,提供立体位阻抑制酸扩散,苯并三唑环与...
  • 本申请提供一种聚对羟基苯乙烯树脂及其制备方法和KrF光刻胶,涉及光刻胶技术领域。本申请提供的聚对羟基苯乙烯树脂在树脂基体中引入特定的酰胺类衍生物,此类树脂与其余添加剂混合,从而形成适用于不同膜厚的具有高分辨率、高灵敏度以及边缘粗糙度小的...
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