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李金宗专利技术
李金宗共有9项专利
基于窄带干涉滤光片和主动标志器实现的适配系统技术方案
本发明公开了一种基于窄带干涉滤光片和主动标志器实现的适配系统,包括窄带干涉滤光片、主动标志器、摄像装置,窄带干涉滤光片置于摄像装置的镜头前,摄像装置与成像处理设备连接,工作在近红外波段的主动标志器与摄像装置的镜头相距的距离处于设定距离范...
一种窄带干涉滤光片制造技术
本发明公开了一种窄带干涉滤光片,它包括由石英玻璃材料制成的基片,在该基片的上、下表面上分别镀制主峰膜系、截次峰膜系,其中:该主峰膜系为四半波膜系;该截次峰膜系为截次峰膜堆。本发明窄带干涉滤光片的光学性能好,具有通带透过率高、止带截止深、...
远场目标标志器及其光纤面板的应用制造技术
远场目标标志器及其光纤面板的应用,目前使用的标志器,其结构设计不能保障辐射波束的单峰、平滑和对称,也很难保障给定的辐射角,没有进行消除阳光效应和耐高低温、耐辐照等加固设计,所以不能适应作用距离远、范围大的要求,也不能在阳光及其它杂散光的...
匀光器及其光纤面板的用途制造技术
匀光器及其光纤面板的用途。使用焦距等于或大于16mm的CCD摄像机,近场标志器在较近距离范围内成像后有可能出现花瓣,均匀性不能满足要求。要解决花瓣问题,特别是近场标志器,必须在原设计的基础上增加匀光器。本产品的组成包括:圆筒形壳体(6)...
远场目标标志器制造技术
远场目标标志器,目前使用的标志器,其结构设计不能保障辐射波束的单峰、平滑和对称,也很难保障给定的辐射角,没有进行消除阳光效应和耐高低温、耐辐照等加固设计,所以不能适应作用距离远、范围大的要求,也不能在阳光及其它杂散光的强干扰环境以及在高...
匀光器制造技术
匀光器,使用焦距等于或大于16mm的CCD摄像机,近场标志器在较近距离范围内成像后有可能出现花瓣,均匀性不能满足要求。要解决花瓣问题,特别是近场标志器,必须在原设计的基础上增加匀光器。本产品的组成包括:圆筒形壳体(6),所述的圆筒形壳体...
单帧图象超分辨方法技术
单帧图象超分辨方法,成像系统在成象过程中,使原来的物图象模糊和变形;同时,由于其中模数(A/D)变换过程CCD的欠采样,会引起频率混叠,丢失高频信息,并且使频率混叠段出现频谱畸变,因此,不但将真实的图象景物的频谱变窄了,而且改变了高频段...
合作目标标志器制造技术
本发明涉及一种合作目标标志器,它包括:筒体、支撑架、限位架、一个顶部近红外发光二极管、数个环部近红外发光二极管、光纤面板和防护玻璃板;支撑架呈类球冠形,支撑架固定连接在筒体的底部,顶部近红外发光二极管固定连接在支撑架的顶部并且其轴线与支...
合作目标标志器制造技术
本实用新型涉及一种合作目标标志器,它包括:筒体、支撑架、限位架、一个顶部近红外发光二极管、数个环部近红外发光二极管、光纤面板和防护玻璃板;支撑架呈类球冠形,支撑架固定连接在筒体的底部,顶部近红外发光二极管固定连接在支撑架的顶部并且其轴线...
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