本发明揭露一种玻璃结构的制造方法与设备。玻璃结构的制造方法包含下列步骤。提供玻璃基材。形成陶瓷前驱物层覆盖在玻璃基材的表面上。对陶瓷前驱物层进行激光回火处理，以将陶瓷前驱物层结晶化成陶瓷膜。

本发明提供一种等离子体装置，包括一外壳、一第一电极、一第二电极、一喷嘴以及一气体喷出口。外壳具有一第一腔室。该第一电极为一第一管状电极，第一管状电极设置在第一腔室中，且具有一第二腔室。第二电极具有与第二腔室连通的一第三腔室，其中第二电极...

本发明涉及一种抗污薄膜的常压蒸镀方法、常压蒸镀装置与制作设备。此抗污薄膜的常压蒸镀方法包含下列步骤。提供一基材。对一抗污涂料溶液进行一气化步骤，以形成多个抗污蒸气分子。沉积这些抗污蒸气分子于基材的一表面上，以形成抗污薄膜。

一种等离子放电装置及其应用方法。该等离子放电装置至少包含外电极、绝缘层以及内电极。外电极至少包括：一第一部分具有一第一腔室，且第一腔室具有第一孔径，其中第一腔室具有一底板，且底板设有一开口；以及一第二部分连接到第一部分下，且具有第二腔室...

本发明公开了一种等离子导引机构及应用该导引机构的等离子放电装置，该等离子导引机构包括：套接于等离子放电装置上的壳体，借以与等离子放电装置定义出第一腔室第二腔室，其中等离子放电装置通过电弧放电在第一腔室内生等离子，第一腔室与第二腔室联通，...

本发明提供了一种耐磨耗、可由低温工艺形成，且具有高附着力的类金刚石碳薄膜及其制造方法，本发明的方法是利用有机硅氧化合物，如六甲基二硅醚混合含氢碳源，以薄膜沉积的方法，并且在工艺中逐渐改变有机硅氧化合物与含氢碳源的比例，在基材上形成一含硅...