卡尔蔡司半导体技术股份公司专利

卡尔蔡司半导体技术股份公司专利技术

卡尔蔡司半导体技术股份公司共有2项专利

光学装置、特别是用于EUV光刻的投影曝光设备、以及具有降低的污染的反射光学元件制造方法及图纸

本发明涉及一种光学装置，特别是一种用于ＥＵＶ光刻的投影曝光设备（１），包括：围住内部空间（１５）的外壳（２）；至少一个布置在所述外壳（２）中的光学元件（４至１０，１２，１４．１至１４．６），特别是反射光学元件；至少一个用于在所述外壳（２...

最后更新日期：2012-04-11 18:40 访问量：235
具有降低的污染的反射光学元件制造技术

本发明涉及一种光学装置，特别是一种用于ＥＵＶ光刻的投影曝光设备（１），包括：围住内部空间（１５）的外壳（２）；至少一个布置在所述外壳（２）中的光学元件（４至１０，１２，１４．１至１４．６），特别是反射光学元件；至少一个用于在所述外壳（２...

最后更新日期：2012-04-11 18:40 访问量：158