本公开涉及一种用于低温系统的支撑结构，该支撑结构包括第一隔室、第二隔室和第三隔室，其中，第一隔室、第二隔室和第三隔室以此顺序垂直堆叠，其中，第一隔室被配置为容纳低温恒温器，其中，第二隔室被配置为提供对低温恒温器顶部的访问，用于对低温恒温...

本公开涉及一种低温设备，包括：至少一个第一温度改变机构，其连接到样品台且配置为改变样品台处的温度；至少一个第二温度改变机构，其不同于至少一个第一温度改变机构，其中，至少一个第二温度改变机构连接到样品台且配置为改变样品台处的温度；以及控制...

本公开涉及一种控制绝热退磁设备的方法。该方法包括至少改变绝热退磁设备的运行参数。该方法包括至少改变绝热退磁设备的运行参数。该方法包括至少改变绝热退磁设备的运行参数。

本公开涉及一种装置，包括第一热装置；第二热装置；和连接元件，配置为连接第一热装置和第二热装置。和第二热装置。和第二热装置。

本公开涉及一种用于将样品支架(200)移入和移出真空室(810)的样品转移装置(100)，包括：保持装置(110)，其包括至少一个凸轮(120)，配置为与样品支架(200)的至少一个从动件(210)配合，其中所述至少一个凸轮(120)包...

样品插置系统(10)包括通道(12)、密封元件(16)和真空设备(18)。通道(12)具有可以连接至诸如低温恒温器的腔室的端口(14)。真空设备(18)可以降低通道(12)中的压力。密封元件(16)布置在通道(12)中并且从通道密封出容...