本实用新型公开了一种快速导流散热型硅研磨片，包括研磨转盘，研磨转盘的底部固定设有硅研磨片本体，研磨转盘的内壁等距离开设有多个冷却槽，每个冷却槽内壁的一侧均等距离开设有多个连接槽，研磨转盘的外壁等距离开设有多个出水孔，研磨转盘顶端的一侧开...

本发明公开了一种晶圆片外观缺陷的检测分析方法及系统，包括以下步骤：步骤S1、将所述晶圆片实体进行强光源投射得到用于外观缺陷检测的晶圆片投影图，将晶圆片投影图进行单点量化得到多个晶圆片投影像素点，并将晶圆片投影像素点进行差异分簇得到多个晶...

本发明公开了一种用于晶圆片加工的滚磨机，包括硅晶棒旋转机构、滑轨、滑动底座和具有滚磨片的滚磨片安装机构，滑动底座上安装有自动上下料机构，自动上下料机构包括平移组件、用于放置和定位待滚磨的硅晶棒的硅晶定位组件，以及用于驱动硅晶定位组件进行...

本发明公开了一种晶圆片表面加工用抛光机，包括转动安装有下磨盘的研磨底座、通过升降装置设置在研磨底座的正上方的顶盖、中心磨盘和下旋转驱动机构，顶盖的底部安装有上磨盘，顶盖上安装有上旋转驱动机构，下旋转驱动机构具有转动安装在下磨盘的轴心处的...