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弘世科技公司专利技术
弘世科技公司共有12项专利
具有低饱和磁化强度自由层的自旋转移磁性元件制造技术
本发明公开了一种用于提供可以用在磁性存储器中的磁性元件的方法和系统。该磁性元件包括被钉扎层、非磁性间隔层和自由层。该间隔层位于该被钉扎层和自由层之间。当写入电流通过该磁性元件时,该自由层可以利用自旋转移切换。该磁性元件还可包括阻挡层、第...
具有高垂直各向异性和平面内平衡磁化的自由层的自旋转移磁性元件制造技术
本发明公开了一种用于提供可以在磁存储器中使用的磁性元件的方法和系统。该磁性元件包括被钉扎层、非磁性间隔层和自由层。间隔层位于被钉扎层和自由层之间。当写入电流穿过磁性元件时,可使用自旋转移切换自由层。磁性元件还可包括阻挡层、第二被钉扎层。...
提供高度织构的磁阻元件和磁性存储器的方法和系统技术方案
揭示了一种提供磁性元件的方法和系统。所述方法和系统包括提供被钉扎层,自由层以及被钉扎层和自由层之间的间隔层。所述间隔层是绝缘的,并具有规则的晶体结构。所述间隔层也设置成允许隧穿所述间隔层。一方面,对于所述间隔层,所述自由层由具有相对间隔...
具有用于自旋转移翻转的高自旋极化层的MTJ元件以及使用该磁性元件的自旋电子器件制造技术
揭露了一种提供磁性元件的方法及系统。所述方法及系统包括设置第一及第二被钉扎层、自由层及分别位于所述第一及第二被钉扎层与所述自由层之间的第一及第二势垒层。所述第一势垒层为绝缘的结晶MgO且形成为容许隧穿通过所述第一势垒层。此外,所述第一势...
用于利用自旋转移的磁性元件的电流约束传递层和使用该磁性元件的MRAM器件制造技术
本发明公开了一种提供磁性元件的方法和系统。一方面,磁性元件包括至少一个被钉扎层(110)、自由层(130)、和位于被钉扎层(110)和自由层(130)之间的电流约束层(120)。被钉扎层(110)是铁磁性的并且具有第一磁化。电流约束层(...
用于磁性存储器应用的应力辅助电流驱动切换制造技术
本发明公开了一种提供磁性存储器的方法和系统。该方法和系统包括提供多个磁性元件,并且提供至少一个应力辅助层。该多个磁性元件的每一个都配置成使用自旋转移进行写入。该至少一个应力辅助层配置成在写入期间对该多个磁性元件的至少一个磁性元件施加至少...
用于提供利用自旋转移的磁性元件的热辅助切换的方法和系统技术方案
本发明公开了一种提供能用于磁性存储器中的磁性元件的方法和系统。所述磁性元件包括被钉扎层、非磁性间隔层、自由层以及热辅助切换层。所述间隔层位于所述被钉扎层和自由层之间。所述自由层位于所述间隔层和热辅助切换层之间。所述热辅助切换层在所述自由...
利用自旋转移的垂直磁化磁性元件制造技术
本发明公开了一种用于提供能够在磁性存储器中使用的磁性元件的方法和系统。该方法和系统包括提供第一被钉扎层、阻挡层、自由层、导电非磁性间隔层和第二被钉扎层。每个被钉扎层具有被钉扎层易轴。所述被钉扎层易轴的至少一部分处于垂直方向。所述阻挡层位...
自旋势垒增强的磁致电阻效应元件以及使用这种元件的磁性存储器制造技术
本发明涉及一种提供可用于磁性存储器的磁性元件的方法和系统。该磁性元件包括被钉扎层、间隔层、自由层和自旋势垒层。间隔层是非磁性的,位于被钉扎层和自由层之间。当写电流通过磁性元件时,使用自旋转移可转换自由层。自由层位于间隔层和自旋势垒层之间...
自旋势垒增强的双磁致电阻效应元件及使用该元件的磁性存储器制造技术
本发明揭露了一种提供可用于磁性存储器的磁性元件之方法及系统。该磁性元件包括第一被钉扎层、间隔层、自由层、自旋势垒层及第二被钉扎层。该间隔层为非磁性且驻留于该被钉扎层与该自由层之间。当写电流通过该磁性元件时,可使用自旋转移对自由层进行转换...
利用自旋转移的快速磁性存储器件以及其中使用的磁性元件制造技术
揭露了一种磁性存储器的设置方法及系统。该方法及系统包括设置多个磁性存储单元、多根字线、多根位线。各所述多个磁性存储单元包括多个磁性元件及至少一个选择晶体管。各所述多个磁性元件能够通过受驱动经过所述磁性元件的写电流利用自旋转移感应翻转来进...
具有改进的读写容限的电流驱动切换磁性存储单元及采用该单元的磁性存储器制造技术
描述了一种用于提供磁性存储器的方法和系统。磁性存储器包括多个磁性存储单元和至少一条位线以及与多个磁性存储单元相对应的多条源线。各磁性存储单元包括磁性元件,其被编程为:由被驱动在第一方向通过磁性元件的第一写电流形成高阻态,由被驱动在第二方...
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