本发明提高利用等离子体处理成膜的面内均匀性。一种等离子体处理装置，被构成为使导入到电极板与喷淋板之间的工艺气体通过形成在喷淋板上的多个小孔而排向对置电极，其特征在于，与所述喷淋板大致平行配置并具有多个小孔的扩散板设置在所述电极板与所述喷...

本发明用于提高等离子体处理的膜形成的面内均匀性。一种等离子体处理装置，其特征在于，包括：电极板，设置于反应容器内；对置电极，在所述反应容器内与所述电极板对置而平行地配置；传输路径，从所述电极板的与所述对置电极不对置的非对置侧连接，从所述...

本发明提供一种基板托盘，用于通过提高基板的加热效率及基板加热的均匀性，使提高向基板的膜厚的均匀性和膜质变容易的薄膜形成装置中。一种薄膜形成装置用基板托盘，具有如下特征：通过外架的内将近似四边框的分隔框架按照纵横方向架设而将外框内区划为近...