本技术公开了一种全自动划片机清洗系统，包括清洗罩和底座罩，底座罩底部设有下开口，清洗罩顶部设有上开口，清洗罩顶部设有气幕组件，底座罩底部设有升降组件，升降组件穿过下开口并控制清洗盘安装板的升降，清洗盘安装板上设有夹持组件，底座罩底部贯穿...

本技术公开了一种适用于划片机的可调式喷水罩装置，包括安装于主轴上的刀片，以及位于刀片外围的喷水罩，喷水罩底部左侧设有前后喷机构，喷水罩右侧壁连接有侧喷机构，侧喷机构包括侧喷安装板，侧喷安装板包括安装于竖板外侧底部的安装块，喷水罩右侧壁设...

本发明公开的属于划片机技术领域，具体为一种应用于晶圆的全自动划片机，包括划片机组件，还包括：用于对晶圆进行上下料的上下料组件，且上下料组件设在划片机组件上，用于对晶圆进行清洗的清洗组件，且清洗组件设在划片机组件和上下料组件上，用于对晶圆...

本发明公开的属于Y轴运动技术领域，具体为一种应用于晶圆划片的Y轴运动平台，包括Y轴底座，所述Y轴底座的底部两端均固定安装立柱，还包括：直线电机，所述直线电机固定安装在Y轴底座的侧面上，所述直线电机的两端均设有Y轴滑台，所述第一导轨固定安...

本发明公开了一种压电陶瓷的转台调平装置及工作方法，Y轴移动机构前侧可滑动设置有Z轴移动机构，Z轴移动机构下端滑动设置有连接组件，连接组件下端固定安装有视觉系统；Y轴移动机构背侧固定安装于横梁上，横梁两侧底部固定安装有立柱，立柱底部与底座...

本实用新型涉及一种用于半导体晶圆划片机的推料装置，推料装置包括推料支架、走线拖链、上推料气缸、下推料气缸、第一滑动组件和第二滑动组件，下推料气缸和第一滑动组件均固定设于推料支架上，上推料气缸与第二滑动组件相连，第二滑动组件滑动连接于第一...

本实用新型涉及一种用于半导体晶圆划片机的机械手夹料装置，其包括上下气缸、旋转组件和抬料组件，旋转组件包括旋转气缸安装座、旋转气缸和转盘，抬料组件包括抬料夹爪安装板和数个抬料夹爪，旋转气缸安装座固定设于抬料夹爪安装板上，且旋转气缸安装座顶...

本发明涉及一种用于半导体晶圆划片机的自动上下料装置，其包括型材机架，型材机架顶部设有上料底板，还包括设于上料底板上方的机械手臂机构、夹料机构、推料机构、圆环料盒机构和设于上料底板下方的升降机构，推料机构的下方设有与圆环料盒机构连通的料盘...