本发明涉及汽车用品技术领域，尤其涉及一种汽车研磨膏及其制备方法，按照重量百分比计包括以下组分：团聚氧化铝微粉10‑20％，溶剂油15‑25％，润滑剂1‑5％，腐蚀剂2‑4％，防冻剂3‑6％，pH调节剂0.3‑0.8％，乳化剂2‑8％，消...

本发明提供一款适合高转速低压力打磨的研磨耗材的制备方法，具体制备方法如下：步骤S1：20

本发明公开了一种绒基V栅状立体磨料及其制备方法，该制备方法包括：(1)将各原料分散均匀的浆料；(2)将分散的浆料涂附于V栅模具腔体中，然后转移至绒基基材上，在UV光的作用下，浆料在绒基基材上固结成型得到V栅模块；(3)将固结成型的V栅模...

本发明公开了一种调节UV浆料粘度的方法，包括以下步骤：(1)测试待使用UV浆料的粘度数值；(2)根据UV浆料的粘度数值，向UV浆料中加入调节剂，得到调节后的UV浆料；所述的调节剂为气相二氧化硅、改性料脲溶液或者聚合物分散剂中的一种或者多...

本发明提供了一种含超微粒子清洁布的制备方法，涉及清洁布加工技术领域。本发明所述清洁布是将基布表面涂覆超微离子氧化铝，通过将白油、液态松香以及氧化铝超微离子混合成涂覆液，并采用对辊挤压浸渍涂布的方式，使得基布表面带有超微离子。本发明提供的...

本发明提供了一种用于碳化硅晶片加工的粗磨液，其是由金刚石团聚磨料和丙三醇构成。本发明的粗磨液配合有多边形沟槽的塑胶垫使用，可以替代传统的铸铁盘碳化硼粗磨工艺。采用本发明低浓度的粗磨液即可达到比高浓度碳化硼粗磨液更好的使用效果，减少了后道...

本发明提供了一种用于金属打磨的干湿两用砂带及其制备方法，涉及金属打磨砂带加工技术领域。本发明干湿两用砂带是由基布以及基布表面粘附的浆料构成，所述浆料包括光固化单体、光固化低聚物、引发剂、偶联剂、分散剂、磨料、散热剂。本发明的砂带耐水性佳...

本实用新型涉及金刚石打磨片技术领域，尤其是一种立体结构的金刚石打磨片,包括海绵层，所述海绵层的上端连接有底胶层，所述底胶层远离海绵层的一端等距设有磨料块，所述海绵层的下端连接有热熔胶层，所述热熔胶层远离海绵层的一端连接有撕拉绒层。具有均...

本实用新型涉及研磨盘技术领域，尤其是一种自清洁缓冲研磨盘,包括研磨盘体，所述离型纸的上端通过第二粘胶层粘接有减震层，所述减震层远离第二粘胶层的一端通过第一粘胶层粘接有磨料层，所述减震层包括有第一泡棉层、橡胶垫层、第二泡棉层，所述橡胶垫层...

本发明公开了一种泡棉手擦块及其制备方法，所述手擦块包括便于手持的泡棉基体，泡棉基体的顶端面通过粘接胶层固定连接有用于实现打磨作业的打磨机构，所述打磨机构包括粘覆在粘接胶层上的磨料层以及固化在磨料层顶端面上的立体磨料块；所述制备方法包括混...

本发明公开了一种汽车抛光膏，包括以下重量份数的组分：氧化铝10～45份，分散剂1～4份，光亮剂0.5～3份，增稠剂0.5～2份，润滑剂2～5份，pH调节剂0.1～0.5份，去离子水45～80份。本发明的应用，能很好地实现漆面的去污、修复...

本发明公开了一种漆面研磨砂碟的制备方法，具体包括以下步骤，将碳化硅磨料、光固化胶黏剂、稀释剂、光引发剂、助剂按比例添加到容器内，高搅避光分散，形成碳化硅浆料；将分散合格后的碳化硅浆料通过凹版涂敷于具有立体磨料结构的模具中；将PET基材贴...

本发明公开了一种用于打磨金属手机中框的棱锥型立体磨具，包括设置于底层的软基材，软基材上设置有若干向上突起并由金刚石浆料固化形成的棱锥；所述金刚石浆料采用如下重量份数的组分制备而成：金刚石磨料30~60份，光固化胶黏剂30~60份，稀释剂...

本实用新型公开了一种微负压涂覆结构,包括油布辊，所述油布辊的一侧设有胶辊，所述油布辊和胶辊之间设有浆料喷头，且浆料喷头位于油布辊和胶辊缝隙处的正上方，所述浆料喷头的顶端设有抽气加料装置，所述抽气加料装置的内部对称开设有两个安装腔，两个所...

本发明公开了一种微粉预聚体配方，所述微粉预聚体的配方如下：磨料30‑70%、助剂0.1‑3.5%、填料8‑45%、胶黏剂水溶液25‑65%。本发明可以将小颗粒微粉通过粘结剂结合在一起，成为一个较大的微粉预聚体，该预聚体在研磨过程中是大面...

本发明涉及软基材涂覆磨具技术领域，尤其是一种软基材涂覆磨具,包括底胶层，所述底胶层的上端等距连接有磨料块，每个所述磨料块的内腔均通过胶粘剂粘接有磨料凸起，所述底胶层的下端连接有TPU软膜基材，所述TPU软膜基材远离底胶层的一端通过第一热...

本发明提供了一种植绒材料，包括：基材；设置在所述基材表面的胶层，所述胶层由60～80wt％的水性聚氨酯改性乳液、10～30wt％的丙烯酸水分散体、5～15wt％的聚异氰酸酯固化剂、0.1～0.5wt％的流平剂和0.1～2wt％的表面活性...

本发明提供了一种立体磨料，包括：衬底；复合在所述衬底上的胶层；复合在所述胶层上的基材；复合在所述基材上的底胶层；设置在所述底胶层上的若干磨块，所述相邻磨块之间具有间隙；所述磨块由混合物固化形成，所述混合物包括：20～40wt％的光固化胶...