本发明公开了一种用于传送基板的装置，并且更具体地涉及这样一种用于传送基板的装置，其中基板在被传送以经历清洁工艺或蚀刻工艺时是倾斜的，从而导致工艺液体在一个方向上流动并由此提高清洁工艺或蚀刻工艺的效率。

本申请公开了一种卷至卷膜处理系统。该卷至卷膜处理系统包括：退绕装置，该退绕装置用于退绕并供应对象膜；处理施加装置，该处理施加装置用于向从所述退绕装置供应的所述对象膜施加处理；以及重绕装置，该重绕装置用于重绕由所述处理施加装置处理的所述对...

挤压装置和利用挤压装置制造柔性显示装置的方法。本发明涉及一种用于挤压形状类似于板的第一部件和形状类似于板的第二部件的挤压装置，所述挤压装置包括：第一板；第二板，该第二板被设置为靠近和远离所述第一板移动；多个第一驱动器，该多个第一驱动器用...