本发明公开了一种基于激光源直写掩膜的高精密微纹理金属蚀刻方法，通过光‑材‑机协同优化设计，结合等离子预处理、涂布超薄光阻掩膜、激光直写、显影、固化、化学蚀刻及去掩膜后处理等工艺步骤，实现了线宽≤20μm的高清晰、无锯齿微纹理加工。采用波...